納米光觸媒二氧化鈦分散機
高剪切研磨分散機XMD2000溶解到純凈水中，或者蒸餾水，去離子水等，做成光觸媒水溶液，直接噴涂于墻壁，家居表面，以及汽車室內(nèi)等可以迅速的捕捉并分解室內(nèi)的甲醛，苯，氨等有害氣體，除味效果好。
納米材料是指兩相顯微結(jié)構中至少有一相的一維尺度達到納米級。納米粒子粒徑很小，表面能很大，極易團聚此，所以如何制取納米粒子本身就是一個非常復雜的技術問題，如何能夠使用納米材料均勻的穩(wěn)定的分散而不團聚是納料技術的核心工作，納米的定義也要在納米材料以能夠?qū)崿F(xiàn)的功能，體現(xiàn)出納米效應為主要依據(jù)。
影響納米材料分散要素：
1、分散介質(zhì)
（1）根據(jù)粘度不同，分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中，如水和有機溶劑，納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等，高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。
2、分散劑
（1）分散劑的選擇，與分散介質(zhì)的結(jié)構、極性、溶度參數(shù)等密切相關。
（2）分散劑的用量，與納米材料比表面積和共價鍵修飾的功能基團有關。
（3）水性介質(zhì)中，推薦使用TNWDIS。強極性有機溶劑中，如醇、DMF、NMP， 推薦使用TNADIS。中等極性有機溶劑如酯類、液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠，推薦使用TNEDIS 。
3、分散設備
XMD2000進口超高剪切研磨分散機
研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考：
|
型號 |
標準流量 L/H |
輸出轉(zhuǎn)速 rpm |
標準線速度 m/s |
馬達功率 KW |
進口尺寸 |
出口尺寸 |
|
XMD2000/4 |
400 |
18000 |
44 |
4 |
DN25 |
DN15 |
|
XMD2000/5 |
1500 |
10500 |
44 |
11 |
DN40 |
DN32 |
|
XMD2000/10 |
4000 |
7200 |
44 |
22 |
DN80 |
DN65 |
|
XMD2000/20 |
10000 |
4900 |
44 |
45 |
DN80 |
DN65 |
|
XMD2000/30 |
20000 |
2850 |
44 |
90 |
DN150 |
DN125 |
|
XMD2000/50 |
60000 |
1100 |
44 |
160 |
DN200 |
DN150 |
納米光觸媒二氧化鈦分散機
