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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
MKS質(zhì)量流量計(jì)1179A00423CR1BV氣體Ar 2000sccm
MKS質(zhì)量流量計(jì)1179A00423CR1BV氣體Ar 2000sccm
產(chǎn)品價(jià)格:¥9999.99
上架日期:2024-06-05 15:08:47
產(chǎn)地:美國(guó)
發(fā)貨地:廣東深圳市
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詳細(xì)說(shuō)明

    MKS質(zhì)量流量計(jì)1179A00423CR1BV氣體Ar 2000sccm

    LAM796-055344-005水蒸汽輸送模塊brooksinstrument VDM300

    27-126062-00                                                                                       3310-01071   ?;                                                                                     1350-01027   ?;                                                                                               1350-01021   ?;                                                                                                60-10006-00 275821                                                                                             3310-01055 275185                                                                                         27-126029-00 629B-15894

    美國(guó)CTI-Cryogenics 、CVI、Austin,德國(guó)Leybold、日本Anelva、住友重工 (SHI、APD 、Daikin)、 ULVAC、Suzuki等公司低溫泵 冷凝泵。


    提供GM及SV 冷凝泵 低溫泵 的配件。

    下面是出售的部分冷泵及配件(還有很多配件沒(méi)有上傳,歡迎來(lái)電咨詢):



    ON BOARD 8F CRYOPUMP AMAT ENDURA 8116143G001


    CTI-TOR8

    Cryo-Torr Interface 8135903G001

    Granville-Phillips Vacuum Guage Controller NR

    15K High Capacity Array

    CTI Maintenance Kits

    Helium Line AMAT 3400-01109 CTI 8043086G240

    TC Gauge 8112105

    Cryo-Torr Interface 8135903G001



    mks TYPE670真空計(jì)校準(zhǔn)儀690傳感器

    722C01TCD2FJ電子真空計(jì)MKS真空壓力計(jì) 1TORR 4VCR

    brooksinstrument VDM300維修與銷售lam796-055344R007

    MKS  MFVC-29886  MKS  MFVC-34785 MKS  MFVC-32497  MKS  VODMB-26565  LAM 797-004456R005 MKS390100-YG 275071 392100-YE MKS-226A-29571 AMAT0190-50856  0190-51152  MKS649A12T51CAMR 1179A01922CR1AV-K MKS GE50A-30351

    BROOKS AUTOMATION控制器維修978-262-2900(165463)

    MKS SENTRY 1510流量計(jì)AERA EPV100-AW

    TEL設(shè)備流量計(jì)維修ckd tpr4-35-A100T-X0002

    cooling

    temperature under 25° C and a backing pump of 10,000 l/min size or larger used.
    The value is changed if operated under different conditions
    Technical Data

    STP-iXA4506 Series/Pumping Speed Against Inlet Pressure
    EDwardsSTP-H1303C分子泵加SCU-800控制器現(xiàn)貨



    美國(guó)FIL-TECH 對(duì)流表CONVECTION GAUGES CVG101GA/101GB/1

    01GG
    VAT APC Controller(PM7)796-098290-002


    mks真空計(jì)356004-YG-THORIBA VALVE全新原件0190-36237流量計(jì)

    MKS390521-3-YH-T-0018GRANVILLE-PHillips 真空計(jì)AMAT氣體流量計(jì)0190-51152


    Granville-Phillips 隔膜規(guī)390628-0-YE-T   390B6636

    MKS 390628–0-YE MKS GRANVILLE-PHILLIPS gauge P/N:390628–0-YE-T  390628-0-YE-T 390B6636


    LAM796-055344-005

    特點(diǎn)

    • 流量范圍:3 slpm (去離子水蒸汽)
    • 具有超高流量精度的直接水蒸汽測(cè)量
    • 能直接連接到廠房去離子水供應(yīng)系統(tǒng)
    • 在較低溫度下可操作(非過(guò)熱狀態(tài))
    • 沖刷和排水的優(yōu)化設(shè)計(jì)
    • EtherCAT數(shù)字通訊
    • Brooks Expert Support Tool (BEST)圖形用戶界面

    優(yōu)勢(shì)

    • 采用了成熟可靠的熱式質(zhì)量流量測(cè)量和控制技術(shù)
    • 適用于各種FAB去離子水供水的壓力
    • 接液件耐腐蝕性能增強(qiáng)
    • 確保更清潔的操作
    • 可匹配各種設(shè)備的模擬或數(shù)字通訊接口
    • 直接用戶界面可增強(qiáng)數(shù)據(jù)收集或故障排查

    應(yīng)用

    • 硅材料半導(dǎo)體金屬刻蝕后段工藝
    • 硅材料半導(dǎo)體金屬剝離工藝
    • 在負(fù)大氣壓的環(huán)境中超高純加濕
    LAM797-800733-100半導(dǎo)體機(jī)臺(tái)配件MFC649B-32597
    深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司
    SEC-Z11DWM [ 堀場(chǎng) STEC ]
    質(zhì)量流量控制器 SEC-Z11DWM SHI4 50SCCM
    SEC-N112MGM [ 堀場(chǎng) STEC ]
    質(zhì)量流量控制器 SEC-N112MGM N2 300SCCM B-14W3 9P 3
    SEC-Z719JX [ 堀場(chǎng) STEC ]
    質(zhì)量流量控制器 SEC-Z719JX SICL4 100SCCM BLK-C 9P
    SEC-N112MGM [ 堀場(chǎng) STEC ]
    控制器TRIAS EX2 MFC11 NH3 1SLM
    GP-Z104-C [ 堀場(chǎng) STEC ]
    真空計(jì) GP-Z104 0.1TORR


    mks360/370

    AMAT AE PARAMOUNTRF generator0190-441-5


    GRANVILLE PHILLIPS 390 Series Micro-Ion gauge ATM Module:

    PN:390628-0-YE-T,

    PN:390506-3-YE-T,

    P




    加熱元件的發(fā)熱越有效,需要對(duì)它們進(jìn)行的加熱就越少。Plansee 研發(fā)了一種能夠最大化熱輸出的涂層工藝。


    深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司供應(yīng)半導(dǎo)體過(guò)濾器 半導(dǎo)體配件mks真空計(jì)流量計(jì) 等進(jìn)口控制器

    供應(yīng)CTI低溫泵維修和銷售詳細(xì)介紹

    CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢8200/9600

    CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機(jī)維修、銷售和技術(shù)咨詢。

    OB8F:

    OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.

    . Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.

    . Certificate of manufactures conbity attached.

    . ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box

    . CTI Part # 8116143G001   Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371

    8200: 8032559G001

    美國(guó)CTI壓縮機(jī)維修9600: 8135900G001

    MKS354005-YD-T

    Granville-PHillips真空計(jì)    275529-EU

    1.型號(hào):275529-EU

    2 MKS390411-0-YE-T真空計(jì)GRANVILLE-PHILLIPS

    3.非實(shí)價(jià),議價(jià)!英福康真空計(jì)MKS354005-YD-T離子對(duì)撞壓力計(jì)MKS

    INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(jì)(中高真空計(jì))

    INFICON 單臺(tái) Bayard-Alpert 熱離子計(jì) BAG302 的測(cè)量范圍從 1.3 × 10-9 6.7×10-2 mbar(1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr)。緊湊型一體化熱離子計(jì)BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器,內(nèi)置OLED顯示屏,設(shè)定點(diǎn)繼電器和對(duì)數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口,可提高集成靈活性。這些功能與堅(jiān)固的設(shè)計(jì)相結(jié)合,使BAG302成為一種經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且可重復(fù)的過(guò)程,可作為自己的壓力測(cè)量?jī)x器的基礎(chǔ),并提供高價(jià)值/低擁有成本的選擇。

    INFICON 的 BAG302 熱離子計(jì)是下面列出的 MKS/GP 部件號(hào)的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。


    MKS系列 部件號(hào) 顯示 單位 輸出 法蘭型 燈絲 INFICON部件號(hào)
    355 微離子®
    355400-0-碼 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355400-0-葉-T 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    355 微離子® 355400-0-YK-T 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355400-0-YF-T 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    355 微離子® 355400-0-YG-T 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355400-0-碼 毫巴 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355400-0-葉-T 毫巴 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子® 355400-0-YK-T 毫巴 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355400-0-YF-T 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355400-0-YG-T 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355400-0-碼 帕斯卡 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355400-0-葉-T 帕斯卡 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    355 微離子® 355400-0-YK-T 帕斯卡 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355400-0-YF-T 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    355 微離子® 355400-0-YG-T 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355600-0-碼 發(fā)光二極管 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355600-0-碼 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355600-0-碼 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355600-0-葉-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    355 微離子® 355600-0-YK-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355600-0-YF-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    355 微離子® 355600-0-YG-T 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    355 微離子®
    355410-0-碼 RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    355 微離子®
    355410-0-葉-T RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    355 微離子® 355410-0-YK-T RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    355 微離子® 355410-0-YF-T RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    355 微離子® 355410-0-YG-T RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054








    354 微離子®
    354001-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354001-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354001-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354001-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354001-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354001-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354001-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354001-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354001-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354001-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354001-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354001-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354001-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354001-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354001-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354002-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354002-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354002-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354002-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354002-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354002-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354002-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354002-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354002-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354002-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 毫巴 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354002-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354002-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354002-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354002-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354002-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 發(fā)光二極管 帕斯卡 模擬 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354005-YD-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354005-YE-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354005-YK-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354005-YF-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354005-YG-T (傳統(tǒng)產(chǎn)品) RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354005-YD-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354005-YE-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354005-YK-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354005-YF-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354005-YG-M (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 毫巴 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054
    354 微離子®
    354005-YD-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 RS485 DN 16 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-050
    354 微離子®
    354005-YE-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 RS485 DN 25 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-051
    354 微離子® 354005-YK-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 RS485 DN 40 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)-KF 釕涂層銥 352-052
    354 微離子® 354005-YF-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 RS485 DN 16 CF-R 釕涂層銥 352-053
    354 微離子® 354005-YG-P (傳統(tǒng)產(chǎn)品) 帕斯卡 RS485 DN 40 CF-R 釕涂層銥 352-054









































    進(jìn)口CWFG00403 光刻膠過(guò)濾器 WGGB06S02濾芯

    ASML是 Advanced Semiconductor Material  Lithography的簡(jiǎn)稱,中文名稱為阿斯麥(中國(guó)大陸)、艾司摩爾(中國(guó)臺(tái)灣)。艾司摩爾(ASML)為半導(dǎo)體設(shè)備供貨商,成立于1984年,是從荷商飛利浦分割出來(lái)獨(dú)立的半導(dǎo)體設(shè)備公司,總部設(shè)立于荷蘭的Veldhoven。

      ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù),TWINSCAN系列,應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商,都向ASML采購(gòu)TWINSCAN機(jī)型,例如英特爾(Inb),三星(Samsung),海力士(Hynix),臺(tái)積電(TSMC),中芯國(guó)際(SMIC)等。

      ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列,AT系列,XT系列和NXT系列,其中PAS系列光源為高壓汞燈光源,現(xiàn)已停產(chǎn),AT系列屬于老型號(hào),多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場(chǎng)上主力機(jī)種是XT系列以及NXT系列,為ArF和KrF激光光源,XT系列是成熟的機(jī)型,分為干式和沉浸式兩種,而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機(jī)型,全部為沉浸式。

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