mks385620-4-GE-T-00049 真空計 356005-YE-T 傳感器
全新lam bl VODM 料號：796-055344-005MKS傳感器51B13TCA2BA990/51C13TCA2BA990
TC6MVCR是AMAT 3310-01071、Teledyne Hastings DV-6-VCR和Brooks 8112105熱電偶儀表
HORIBA STEC LF-F404M-A-EVD OMCTS 5g/min液質(zhì)流量計
MKS MODE：1179A00452CR1BV真空計 流量計美國 日本 聯(lián)系13510223365
● 壓力測量范圍在10ˉ5Torr 到大氣壓，大于普通的皮拉尼真空計2個測量等級
● 3個用于工藝控制的中繼點(選擇性)
● 超的設(shè)計
● 為工藝控制提供高的測量精度
● 模擬的輸出和數(shù)字通訊(RS232或RS485)提供了簡便的操作
● 可以抵御大氣沖擊和振動
● 可以方便地安裝于任何方向，沒有任何測量精度的損失
● 可以替代任何供應(yīng)商的真空計和設(shè)施的升級
● 符合歐洲CE，EMC標(biāo)志
MKS925真空計可以使用于半導(dǎo)體工業(yè)的分析和鍍膜工藝上的測量。
● 一般的真空壓力測量
● 前極管路和低真空的測量
● 氣體的充填測量和控制
● 質(zhì)譜儀器的控制
● 真空計的啟動
● 工藝系統(tǒng)的控制
● 控制系統(tǒng)的壓力
深圳市天鉉真空技術(shù)有限公司
sell Exchang Repair
Debion注入機 FILAMENT P.S電源
Aviza/SPTS Omega ICP etcher configuration inbation:
1.Configured for 8'' wafer
2.automatic wafer handling
3.Cl2 based etching process
4.3 process modules
5.Inspected by SPTS OEM engineer
6.Missing 1x Mag7 robot
7.Missing 1x VCE B controller
8.Missing 1x 24V DC Power supply
加熱元件的發(fā)熱越有效，需要對它們進(jìn)行的加熱就越少。Plansee 研發(fā)了一種能夠最大化熱輸出的涂層工藝。
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術(shù)咨詢8200/9600
CTI(Ulvac)低溫泵和氦氣壓縮機維修、銷售和技術(shù)咨詢。
OB8F:
OEM (CTI) Refurbished CTI Cryogenics Endura 8F Onboard Cryogenic Vacuum Pump.
. Utilized on AMAT Endura HP PVD Systems, OEM Refurbished to Like New Condition.
. Certificate of manufactures conbity attached.
. ConFlat Flange with Copper Gasket. In OEM Box
. CTI Part # 8116143G001 Serial # A06423485 AMAT Part # 0190-13371
8200: 8032559G001
美國CTI壓縮機維修9600: 8135900G001
MKS354005-YD-T
INFICON BAG302 B-A 型熱陰極電離真空計(中高真空計)
INFICON 單臺 Bayard-Alpert 熱離子計 BAG302 的測量范圍從 1.3 × 10-9 到 6.7×10-2 mbar（1 × 10-9 到 5 × 10-2 Torr）。緊湊型一體化熱離子計BAG302提供易于更換的雙燈絲傳感器，內(nèi)置OLED顯示屏，設(shè)定點繼電器和對數(shù)線性模擬輸出以及集成的RS485數(shù)字接口，可提高集成靈活性。這些功能與堅固的設(shè)計相結(jié)合，使BAG302成為一種經(jīng)濟實惠且可重復(fù)的過程，可作為自己的壓力測量儀器的基礎(chǔ)，并提供高價值/低擁有成本的選擇。
INFICON 的 BAG302 熱離子計是下面列出的 MKS/GP 部件號的直接直接替代品。 這還包括較舊的傳統(tǒng) MKS 354 微離子®模塊。
| MKS系列 | 部件號 | 顯示 | 單位 | 輸出 | 法蘭型 | 燈絲 | INFICON部件號 |
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355 微離子®
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355400-0-碼 | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355400-0-葉-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355400-0-碼 | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355400-0-葉-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355400-0-碼 | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355400-0-葉-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355400-0-YK-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355400-0-YF-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355400-0-YG-T | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355600-0-碼 | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355600-0-葉-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355600-0-YK-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355600-0-YF-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355600-0-YG-T | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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355 微離子®
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355410-0-碼 | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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355 微離子®
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355410-0-葉-T | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 355 微離子® | 355410-0-YK-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 355 微離子® | 355410-0-YF-T | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 355 微離子® | 355410-0-YG-T | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354001-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354001-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354001-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354001-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354001-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354001-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354001-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 托 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 毫巴 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354002-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354002-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354002-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354002-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354002-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 發(fā)光二極管 | 帕斯卡 | 模擬 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-T （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 托 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-M （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 毫巴 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
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354 微離子®
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354005-YD-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-050 |
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354 微離子®
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354005-YE-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 25 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-051 |
| 354 微離子® | 354005-YK-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 國際標(biāo)準(zhǔn)-KF | 釕涂層銥 | 352-052 |
| 354 微離子® | 354005-YF-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 16 CF-R | 釕涂層銥 | 352-053 |
| 354 微離子® | 354005-YG-P （傳統(tǒng)產(chǎn)品） | 不 | 帕斯卡 | RS485 | DN 40 CF-R | 釕涂層銥 | 352-054 |
ASML是 Advanced Semiconductor Material Lithography的簡稱，中文名稱為阿斯麥（中國大陸）、艾司摩爾（中國臺灣）。艾司摩爾（ASML）為半導(dǎo)體設(shè)備供貨商，成立于1984年，是從荷商飛利浦分割出來獨立的半導(dǎo)體設(shè)備公司，總部設(shè)立于荷蘭的Veldhoven。
ASML為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機及相關(guān)服務(wù)，TWINSCAN系列，應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機型。目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購TWINSCAN機型，例如英特爾（Inb），三星（Samsung），海力士（Hynix），臺積電（TSMC），中芯國際（SMIC）等。
ASML的產(chǎn)品線分為PAS系列，AT系列，XT系列和NXT系列，其中PAS系列光源為高壓汞燈光源，現(xiàn)已停產(chǎn)，AT系列屬于老型號，多數(shù)已經(jīng)停產(chǎn)。市場上主力機種是XT系列以及NXT系列，為ArF和KrF激光光源，XT系列是成熟的機型，分為干式和沉浸式兩種，而NXT系列則是現(xiàn)在主推的高端機型，全部為沉浸式。
