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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
日本沙磨理工thermo riko無接觸式紅外線真空加熱爐GVH198
日本沙磨理工thermo riko無接觸式紅外線真空加熱爐GVH198
產(chǎn)品價(jià)格：￥
上架日期：2020-09-23 11:27:36
產(chǎn)地：日本
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供應(yīng)數(shù)量：不限
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詳細(xì)說明

    日本沙磨理工thermo riko無接觸式紅外線真空加熱爐GVH198

    GVL298sys
    只有安裝在各種氣氛（例如超高真空或氣流）中的樣品才能通過紅外線精確定位，以快速加熱樣品而不會(huì)發(fā)生接觸。
    它可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
    這是Thermo Riko的主要型號(hào)。
    快速升溫 ：最高升溫速度150℃/秒，最高1500℃約1min
    清潔加熱 ：不用擔(dān)心熱源或電磁感應(yīng)產(chǎn)生的氣體
    局部供暖 ：僅用紅外線照射樣品，請(qǐng)勿加熱周圍環(huán)境
    可自由安裝 ：可以連接到各種真空系統(tǒng)（ICF70）
    Si和SiC石墨烯等樣品的高速升溫和退火
    氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成
    在氫氣和氮?dú)庵屑訜峄?/span>
    在X射線或紫外線照射下樣品的溫度升高
    在分析儀中加熱樣品，例如加熱的解吸氣體分析儀，XPS，XRD，PLD等。
    在磁場(chǎng)中加熱，在非磁場(chǎng)中加熱
    在加壓氣氛中加熱
    加熱樣品
       紅外線引入加熱裝置根據(jù)應(yīng)用具有以下規(guī)格。
     超高真空型 它支持 10 -9 Pa的超高真空。
     高速升溫型  最大溫度上升率可以實(shí)現(xiàn)150°C /秒的高速溫度上升。
     常溫加熱型  對(duì)于放置在大氣中的樣品，可以進(jìn)行點(diǎn)加熱。
     加壓氣氛類型  可以加熱壓力在10個(gè)大氣壓以下的樣品。
     特殊功能  利用GV系列的功能，我們可以滿足各種要求，例如快速降溫，負(fù)載加熱和在磁場(chǎng)中加熱。
     請(qǐng)隨時(shí)與我們聯(lián)系。
     CE標(biāo)志合格  我們還生產(chǎn)符合CE標(biāo)志的規(guī)范。

    原理圖
     超高真空型GVH
    型號(hào)名稱 GVH198 GVH298
     紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
     最高溫度 1200℃ 1400℃
     受熱面 φ20毫米
     最大加熱速度 1℃/秒
     最大極限真空 5×10 -9帕
     冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
     高速升溫型GV / GVL
    型號(hào)名稱 GV154 GV198 GVL298 GVL398
     紅外燈額定值 500瓦 1千瓦 2千瓦 3千瓦
     最高溫度 1100℃ 1300℃ 1500℃ 1600℃
     受熱面 φ14毫米 φ20毫米
     最大加熱速度 100℃/秒 100-150℃/秒
     最大極限真空 5×10 -7帕
     冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
     加壓氣氛類型GVP
    型號(hào)名稱 GVP198 GVP298
     紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
     最高溫度 1200℃ 1300℃
     受熱面  φ20毫米
     最大加熱速度  100℃/秒
     最大耐壓  1MPa以下
     冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
    快速退火紅外引入加熱系統(tǒng)GV1 / GV2
    底部照射型紅外線熱處理裝置RTA198 / RTA298
    熱溫解吸氣體分析儀GV2H
    紅外引入加熱系統(tǒng)，用于在磁場(chǎng)中加熱樣品GVL298M / GV154M / GV-M 1
    X射線地形圖的紅外線導(dǎo)入加熱裝置
    XPS設(shè)備安裝示例
    它由紅外導(dǎo)入主體，多端口真空室，溫度控制器等組成，可以在超真空下以超高速升高樣品的溫度。
    由于端口很多，因此可以用于各種實(shí)驗(yàn)。
    可以進(jìn)行干凈的加熱，并且可以通過打開和關(guān)閉真空室的前門來取出和取出樣品。
    [應(yīng)用]-
    在真空/氣體氣氛中連續(xù)控制樣品的溫度上升/
    下降-樣品表面加熱和背面冷卻的快速上升
    / 下降測(cè)試（可選）-在加壓氣氛中加熱（可選）
    型號(hào)名稱 GV1 GV2
     紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
     最高溫度 1300℃ 1500℃
     受熱面 ?Φ20毫米
     最大加熱速度 100-150℃/秒
     最大極限真空 5×10 -5帕
     冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
    		GV2
    它由紅外線引入加熱裝置，小型真空室，溫度測(cè)量樣本單元，恒定值溫度控制器等組成。
    通過用來自底表面的紅外線在真空室中照射樣品，可以進(jìn)行樣品的清潔加熱和快速退火。
    您可以從反應(yīng)室頂部的觀察窗觀察并觀察溫度升高期間的樣品。
    型號(hào)名稱 RTA198 RTA298
     紅外燈額定值 1千瓦 2千瓦
     最高溫度 900-1000℃ 1000-1300℃
     受熱面 ?Φ20毫米
     最大極限真空 5×10 -3帕 5×10 -5帕 
     冷水量 1升/分鐘 2升/分鐘
    		 
    		RTA298
    它由超高真空型紅外引入加熱裝置，超高真空室，質(zhì)量分析儀，電源/安全電路單元和真空排氣裝置組成，可以分析從高溫樣品中產(chǎn)生的痕量氣體。 ..
    紅外線導(dǎo)入加熱裝置在真空室內(nèi)具有熱源，不產(chǎn)生氣體，可以進(jìn)行干凈的加熱，可以進(jìn)行高精度的分析。
    型號(hào)名稱 GV2H
     紅外燈額定值 2千瓦
     最高溫度 1500℃
     受熱面 φ15毫米
     最大極限真空 5×10 -6帕 
     目的地 京都大學(xué)
    		GV2H
     
     
    它也是磁場(chǎng)中樣品熱處理的理想選擇。
    [特點(diǎn)]-
    清潔加熱，不會(huì)因電磁感應(yīng)而影響樣品，因?yàn)樗还饧訜?
    只能精確加熱樣品，不加熱磁體。
    還可以在真空或氣體氣氛中在磁場(chǎng)中升高溫度。
    它可以連接到各種電磁體和超導(dǎo)磁體。
    加熱后的樣品與可控氣氛的石英芯管一起插入磁體孔中。
    在樣品溫度為1000°C時(shí)，孔內(nèi)壁溫度為40°C或更低。
    		 GVL298M
     
     
    在高真空的X射線照射過程中，樣品被加熱到超高溫。
    （紅外線是從左上和右下對(duì)角線方向發(fā)出的，而線X是從左上和水平方向上發(fā)出的。）
    真空室安裝在XY工作臺(tái)，旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)和旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)上，可以在加熱，保持或降低樣品的同時(shí)從任何角度進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)分析。
    型號(hào)名稱 GVL298-2S
     紅外燈額定值 2千瓦x 2
     最高溫度 1500℃
     受熱面 φ20毫米
     最大極限真空 5×10 -4帕 
     交貨地點(diǎn)：Spring-8
    		 GVL298-2S
     
     
    許多紅外線引入加熱設(shè)備與各種分析儀結(jié)合使用。
    		 
    這是在XPS上安裝GVL298類型的示例。
    樣品的溫度通過紅外輻射升高，并且樣品中所含的水和氣體被去除和清潔。
    通過超高真空中的傳輸桿將樣品移至照片右側(cè)的XPS分析室，然后施加X射線進(jìn)行表面分析。


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