HI84100采用滴定分析方法快速測(cè)量殘留二氧化硫和總二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當(dāng)有氧存在時(shí)將最先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。
• 基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測(cè)量于一體
• 性能優(yōu)良操作簡(jiǎn)單，可直接顯示測(cè)量結(jié)果
• 人性化設(shè)計(jì)，具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能
• 殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素：總添加量，原初始量，添加的氧化程度
• 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用
• 當(dāng)殘留濃度超過2.0ppm時(shí)，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
| 型號(hào) |
HI 84100 | ||||||||||||||||||
| 滴定范圍 |
0 to 400 ppm of SO2 | ||||||||||||||||||
| 滴定方法 |
等電位氧化還原滴定法 | ||||||||||||||||||
| 滴定精度 |
讀數(shù)的5% | ||||||||||||||||||
| 取樣量 |
50 mL | ||||||||||||||||||
| ORP電極 |
HI 3148B | ||||||||||||||||||
| 供電方式 |
220V/60 Hz；10VA | ||||||||||||||||||
| 使用環(huán)境 |
0 to 50°C (32 to 122°F)；RH max 95% | ||||||||||||||||||
| 尺寸重量 |
208 × 214 × 163 mm；2200 g | ||||||||||||||||||
| HI 84100 | 食品行業(yè)二氧化硫滴定分析測(cè)定，HI3148B專用電極，滴定試劑，相關(guān)附件，中英文手冊(cè) |
