美國(guó)4Wave公司離子束鍍膜和刻蝕系統(tǒng)
4Wave成立于2000年，主要人員及技術(shù)均源于美國(guó)著名的離子束技術(shù)公司Commonwealth Scientific。Commonwealth于2000年被Veeco收購(gòu)后，其主要的技術(shù)及管理高層離開(kāi)Commonwealth后，重新組建了4Wave公司。4Wave全心致力于研究與應(yīng)用離子束技術(shù)，主要產(chǎn)品為基于離子束技術(shù)的薄膜沉積及刻蝕系統(tǒng)，客戶群覆蓋大學(xué)、國(guó)防軍工、先進(jìn)技術(shù)公司等領(lǐng)域。
4Wave領(lǐng)先技術(shù)
1. 低能高束流離子源
2. 偏壓靶離子束沉積
3. 低能量的精準(zhǔn)離子束刻蝕
離子束刻蝕
1. 真空鎖結(jié)構(gòu)可選
2. 單片或行星式裝置
3. 射頻ICP離子源
4. 刻蝕終點(diǎn)監(jiān)測(cè) - 二次離子質(zhì)譜儀
5. 基于PC+PLC的自動(dòng)化控制系統(tǒng)架構(gòu)
離子束沉積
1. 真空鎖結(jié)構(gòu)可選
2. 多靶自動(dòng)選擇
3. 射頻ICP離子源
4. 輔助沉積/表面預(yù)清洗離子源
5. 晶振和光學(xué)膜厚測(cè)量
6. 偏壓靶技術(shù)可選
1.行星式氣冷刻蝕系統(tǒng)
2.應(yīng)用于磁阻、巨磁阻的離子束沉積系統(tǒng)
3.研發(fā)型和工業(yè)型DLC硬質(zhì)薄膜沉積系統(tǒng)
4.AlN介質(zhì)膜離子束沉積系統(tǒng)
5.應(yīng)用于半導(dǎo)體存儲(chǔ)器鍍層的IBD和IBE系統(tǒng)
6.合金納米涂層濺射系統(tǒng)
7.應(yīng)用于紅外探測(cè)器的離子束沉積系統(tǒng)
8.行星式離子銑