德國(guó)NanoPhotonics公司表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)
德國(guó)NanoPhotonics公司成立于1997年,其設(shè)備主要用于半導(dǎo)體生產(chǎn)中裸芯片表面,邊緣,背面的沉積材料及基片的缺陷探測(cè),可用于基板如檢測(cè)掩模板(光罩)上的顆粒、劃痕、缺陷、微米級(jí)粗糙度等。
REFLEX TT桌上型手動(dòng)缺陷檢測(cè)系統(tǒng)
1. 65nm微粒靈敏度
2. 激光暗區(qū)域測(cè)量技術(shù)
3. 一級(jí)潔凈環(huán)境
4. 可選晶圓工作臺(tái)
5. 集成迷你PC和平板顯示器
6. 離線分析
7. 工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
8. 自動(dòng)化軟件
適用不同底材和尺寸
-光罩基板尺寸:2.5"×2.5"—8"×8“
-晶圓尺寸:2"—12"
硅片、玻璃、復(fù)合半導(dǎo)體材料、透明薄膜、金屬薄膜、單晶硅和多晶硅等