電鍍液廢水處理用椰殼活性炭供應商
本產(chǎn)物是優(yōu)良椰殼為質(zhì)料，采納物理法及低溫水蒸氣活化工藝精制而成。黃金用活性炭顆粒度平均，機器強度高，吸附力強，后處經(jīng)水磨等特別工藝制作而成，具備耐磨強度好、吸附機能高檔特色,合用于當代化金礦采金出產(chǎn)，重要用于堆浸法或炭漿法提取黃金冶金產(chǎn)業(yè)中貴金屬的分手和提取。
提取法子：顆?；钚蕴渴沁x用優(yōu)質(zhì)椰殼為質(zhì)料，用先進的設備斯烈普爐活化，配以最好工藝和開始進的檢測手段生產(chǎn)而成，公司結(jié)合炭槳法生產(chǎn)黃金的特點，吸取國外先進技術(shù)，增長了分選、拋光、打磨等一系列工藝。該產(chǎn)品具備強度高、孔徑散布均勻、吸附本領強、吸附速率快、耐磨、黃金收受接管率高、粒度均勻、使用週期長、磨損少等特點，遭到用戶同等好評，是抱負的黃金提取活性炭。
電解處理亦是電鍍過程，所不同的只是在陰極上不吊掛零件，而是改為吊掛以去除雜質(zhì)而制作的電解板(又稱假陰極)。在通電的情況下，使雜質(zhì)在陰極電解板上沉積、夾附或還原成相對無害的物質(zhì)。在少數(shù)情況下，電解去除雜質(zhì)也有在陽極上進行的，使某些能被氧化的雜質(zhì)，在通電的情況下，到達陽極上氧化為氣體逸出或變?yōu)橄鄬o害的物質(zhì)。
電解法適用于去除容易在電極上除去或降低其含量的雜質(zhì)。
(1)電解條件的選擇。這里所指的電解，目的是要去除鍍液中的雜質(zhì)，但是在電解去除雜質(zhì)的同時，往往也伴隨有溶液中主要金屬離子的放電沉積。為了提高去除雜質(zhì)的速率，減慢溶液中主要金屬離子的沉積速率，就要注意電解處理的操作條件。 ①電流密度：電解處理時，以控制多大的電流密度為好，原則上要按照電鍍時雜質(zhì)起不良影響的電流密度范圍。也就是說，在電鍍過程中，若雜質(zhì)的影響反映在低電流密度區(qū)，那么電解處理時應控制在低電流密度下進行，假使雜質(zhì)的影響反映在高電流密度區(qū)，則應選用高電流密度進行電解；如果雜質(zhì)在高電流密度區(qū)和低電流密度區(qū)都有影響，那么可先用高電流密度電解處理一段時間，然后再改用低電流密度電解處理，直至鍍液恢復正常。在一般情況下，凡是用低電流密度電解可以去除的雜質(zhì)，為了減少鍍液中主要放電金屬離子的沉積，一般都采用低電流密度電解。事實上，電鍍生產(chǎn)中，多數(shù)雜質(zhì)的影響反映在低電流密度區(qū)，所以通常電解處理的電流密度控制在o．1 a／dm2～o．5 a／dm2之間。
②溫度和ph值：電解處理時溫度和ph的選擇，原則上也是要根據(jù)電鍍時雜質(zhì)起不良影響較大的溫度和ph范圍。例如鍍鎳溶液中的銅雜質(zhì)和no3-雜質(zhì)，在ph較低時的影響較大，所以電解去除鍍鎳溶液中的銅雜質(zhì)和no3-雜質(zhì)時，應選用低ph進行電解，在這樣的條件下，去除雜質(zhì)的速率較快。有些雜質(zhì)在電解過程中會分解為氣體(如no3-在陰極上還原為氮氧化物或氨，cl-在陽極上氧化為cl2，等，這時就應選用高溫電解，使電解過程中形成的氣體揮發(fā)逸出(氣體在溶液中的溶解度，一般隨溫度升高而降低)，從而防止它溶解于水而重新沾污鍍液。
按照一般規(guī)律，隨著鍍液溫度的升高，電解去除雜質(zhì)的速率也增大，所以當加溫對鍍液主要成分沒有影響時，電解處理宜在加溫下進行。但究竟以控制在什么溫度為好，最好通過小試驗確定。
③攪拌：電解處理既然是依靠雜質(zhì)在陰極(或陽極)的表面上反應而被除去，那么就應創(chuàng)造條件，使雜質(zhì)與電極表面有充分的接觸機會。攪拌可以加速雜質(zhì)運動，使它與電極的接觸機會增多，所以為了提高處理效果，電解時應攪拌鍍液。國外資料介紹，在電解處理時用超聲波攪拌鍍液可提高處理效果。因此，有條件的單位，電解處理時應盡量加速對鍍液的攪拌。
(2)電解處理的要求
①首先要查明有害雜質(zhì)是否來源于電解過程：電解處理可以去除某些雜質(zhì)，但有時也會產(chǎn)生雜質(zhì)。例如有害雜質(zhì)來源于不純的陽極，電解處理時仍用這種陽極，那么隨著電解過程的進行，雜質(zhì)會越積越多；又如雜質(zhì)來源于某些化合物在電極上的分解，那么電解將使這類分解產(chǎn)物逐漸增多。這樣的電解處理，不但不能凈化鍍液，反而會不斷加重鍍液的污染。因此，在電解處理前，要進行必要的檢查，預防處理過程中產(chǎn)生有害雜質(zhì)。
@電解用的陰極(假陰極)面積要盡可能大：用電解法去除雜質(zhì)，大多是在陰極表面上進行的，所以增大陰極面積，可以提高去除雜質(zhì)的效率n同時為了在不同的電流密度部位電解去除鍍液中不同雜質(zhì)或同一種雜質(zhì)，要求電解用的陰極做成凹凸的表面(如瓦楞形)，這樣可以提高電解處理的效果。但陰極上的凹處不宜太深，以防止電流密度過小而使雜質(zhì)不能在這些部位沉積或還原。
③電解過程中，要定時刷洗陰極：由于電解處理的時間一般都比較長，在長時間的電解過程中，陰極上可能會產(chǎn)生疏松的沉積物，它的脫落會重新沾污鍍液，所以在電解一段時間后，應將陰極取出刷洗，把陰極上疏松或不良的沉積物刷去后再繼續(xù)電解。
④電解處理前，最好先做小試驗估計一下電解處理的效果和時間：有些雜質(zhì)，用電解處理很難除去，若盲目地采用電解處理，可能花了很長時間也不能使鍍液恢復正常。
由于小試驗所取的鍍液少，雜質(zhì)的總量也少，往往在通入足夠量的電量，在不長的時間里就能看出電解處理是否有果。例如取2 l有故障的鍍液，掛人2dm2左右的陰極(瓦楞形)，電流2a，電解4h鍍液基本好轉(zhuǎn)，5h鍍液恢復正常，則小試驗表明：每升有故障的鍍液，通入5a?h電量就能使鍍液恢復正常。
由此可以估計，若需要處理的有故障的鍍液為1oool，則需通人5oooa?h左右的電量。假如電解處理時控制電流為1ooa，那么約需電解5oh。由于小試驗與大槽電解時的操作條件不完全相同，因此小試驗不能作為大槽電解處理的依據(jù)，只能作為一種預先的估計，做到心中有數(shù)。
(3)電解處理操作方法。電解處理可以用間歇法和連續(xù)法兩種。間歇法是當鍍液被雜質(zhì)沾污到影響鍍層質(zhì)量時，就停止生產(chǎn)，陰極上改為吊掛電解板，進行電解處理，直至鍍液恢復正常后再轉(zhuǎn)為正式電鍍生產(chǎn)。
連續(xù)法是在電鍍槽旁邊，放置一個小型的輔助槽，這個輔助槽專用于電解去除雜質(zhì)，其中用一臺泵把需要電解處理的鍍液從電鍍槽抽人輔助槽，同時在輔助槽上面開一個溢流口，使經(jīng)過電解處理的鍍液返回到電鍍槽內(nèi)，以保持鍍槽中鍍液恒定地來回循環(huán)。連續(xù)法可以使電鍍和電解處理同時并行，不必停止生產(chǎn)。此法適用于電鍍過程中雜質(zhì)含量會逐漸增長的操作，例如鋅制品鍍鎳，鍍鎳液中鋅雜質(zhì)容易增長；光亮硫酸鹽鍍銅后鍍鎳，鍍鎳液中銅雜質(zhì)容易增長，假使在這類鍍鎳槽旁邊放置一個輔助電解槽，進行連續(xù)電解，可以抑制鋅或銅雜質(zhì)的增長，防止造成故障。
連續(xù)法只能在雜質(zhì)含量還未上升到影響產(chǎn)品質(zhì)量時進行，否則，若雜質(zhì)含量已到達影響鍍層質(zhì)量，那么只得先用間歇法把雜質(zhì)的含量降低至允許范圍內(nèi)，然后再轉(zhuǎn)為連續(xù)法進行電解。
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