一、產品名稱概述：
管線式碳管硅凝膠漆研磨分散機,在線式碳納米管硅凝膠漆研磨分散機,在線式硅凝膠研磨分散機,超高速硅凝膠研磨分散機，高剪切硅凝膠研磨分散機
二、硅凝膠簡介：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）
1.有機硅凝膠在電子工業(yè)上廣泛用作電子元器件的防潮、偷運、絕緣的涂覆及灌封材料，對電子元件及組合件起防塵、防潮、防震及絕緣保護作用。如采用透明凝膠灌封電子元器件,不但可起到防震防水保護作用，還可以看到元器件并可以用探針檢測出元件的故障，進行更換，損壞了的硅凝膠可再次灌封修補。
2.有機硅凝膠由于純度高，使用方便，又有一定的彈性，因此是一種理想的晶體管及集成電路的內涂覆材料,可提高半導體器件的合格率及可靠性；有機硅凝膠也可用作光學儀器的彈性粘接劑。
3.碳納米管的應用十分廣泛，不僅應用于橡膠、工程塑料、合成樹脂等復合材料上用于提高材料應力水平，還可用于導電材料，電磁屏蔽材料，鋰電池、燃料電池、膠體鉛酸電池的電極改性，以及新型高速光電傳感器 。
三、設備介紹：
1.在線式碳納米管硅凝膠漆研磨分散機就是研磨分散機是高效、快速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過程的設備的設備。當其中一種或者多種材料的細度達到微米數(shù)量級時，甚至納米級時，體系可被認為均質。當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質機由于轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。高剪切均質機從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應熟工藝和適量添加劑的共同作用下，瞬間均勻精細的分散乳化，經過高頻高剪切分散研磨分散機的循環(huán)往復，ZUI終得到穩(wěn)定的高品質產品。
2.GMD2000系列產品與傳統(tǒng)的設備對比：
⑴傳統(tǒng)設備需要8小時的分散過程，GMD2000設備1小時就可以完成，更加高效、節(jié)能。
⑵傳統(tǒng)設備的攪拌轉速每分鐘幾十轉，帶有分散功能的每分鐘轉速也在1500轉之內，而3.GMD2000系列每分鐘轉速可達到5000-6000轉，更加快速。超高的線速度產生的剪切力，使物料瞬間細化分散，從而獲得更高品質的產品。
4.GMD2000系列與同類設備的對比：
⑴發(fā)熱問題。同類設備在加工過程中，高粘物料進入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導致物料在設備腔體中停留時間過長而導致嚴重發(fā)熱。GMD2000系列設備在確保效果的基礎上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時間，降低了物料發(fā)熱的狀況。
⑵多層多向剪切分散。同類設備定、轉子等部件結構單一，多級多層的結構只是單純的重復性加工，相同的齒槽結構易發(fā)生物料未經分散便通過工作腔的短路現(xiàn)象。GMD2000系列定、轉子結構采用多層多向剪切的概念，裝配式結構使物料得到不同方向的剪切分散，杜絕短路現(xiàn)象，超細分散更加徹底。
四、上海思峻研磨分散機的選型表：（1—7—7—1—7—0—1—4—6—6—9）
|
型號 |
流量L/H |
轉速rpm |
線速度m/s |
功率kw |
入/出口連接DN |
|
GMD2000/4 |
300 |
18000 |
51 |
4 |
DN25/DN15 |
|
GMD2000/5 |
1000 |
14000 |
51 |
11 |
DN40/DN32 |
|
GMD2000/10 |
2000 |
9200 |
51 |
22 |
DN80/DN65 |
|
GMD2000/20 |
5000 |
2850 |
51 |
37 |
DN80/DN65 |
|
GMD2000/30 |
8000 |
1420 |
51 |
55 |
DN150/DN125 |
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。
3 參數(shù)內的各種型號的流量主要取決于所配置的乳化頭的精密程度而定。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術改動,定制而不同,正確的參數(shù)以提供的實物為準
管線式碳管硅凝膠漆研磨分散機,在線式碳納米管硅凝膠漆研磨分散機,在線式硅凝膠研磨分散機,超高速硅凝膠研磨分散機，高剪切硅凝膠研磨分散機
