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產品簡介
廢水處理相對較容易的高速光亮鍍錫
廢水處理相對較容易的高速光亮鍍錫
產品價格:¥10
上架日期:2019-10-16 09:48:29
產地:佛山
發(fā)貨地:佛山
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詳細說明

    高速光亮純錫

    (一) 特點

     

    StannoPure HSB 高速光亮純錫是一種不含氟硼酸根、低泡沫的純錫工藝。適用于片狀、線狀或連接器的連續(xù)生產電鍍。

     

    StannoPure HSB 高速光亮純錫能產生良好均一的結晶、光亮的無鉛純錫鍍層,可焊性

     

    StannoPure HSB 高速光亮純錫專為純錫電鍍而研發(fā)的工藝,通常用于電子電器裝置,以取替鉛錫電鍍工藝,及迎合禁用含鉛鍍層的國際要求。

     

    StannoPure HSB 高速光亮純錫與其它光錫工藝相比,晶須產生的機會比較低。

     

    StannoPure HSB 擁有以下優(yōu)點

     

    操作容易

     

    此工藝能通過簡單分析作維護;產生四價錫較少。

     

    穩(wěn)定的添加劑

     

    添加劑能用在廣闊的溫度范圍內。

     

    簡單的廢水處理

     

    因為鍍液不含氟硼酸根,所以廢水處理相對較容易;對設備的侵蝕也減少。

     

    (二)鍍液組成及操作條件

     

    建議100升開缸量

    甲基磺酸液 SOLDERPLATE(945 克/升游離甲基磺酸)

    16.0

    21.6

    甲基磺酸錫 SOLDERPLATE (300 克/升 Sn2+)

    15.0

    23.3

    高速光亮純錫 HSB 走位劑

    2.0

    2.0

    高速光亮純錫 HSB 光亮劑

    0.4

    0.4

    純水

    66.6


     

    建議工作濃度

    二價錫

    [g/l]

    45 (30 – 60)

    游離甲基磺酸

    [g/l]

    160 (140 – 220)

    高速光亮純錫 HSB 走位劑

    [ml/l]

    20.0 (15.0 – 25.0)

    高速光亮純錫 HSB 光亮劑

    [ml/l]

    4.0 (3.0 – 6.0)


    工作參數(shù)

    溫度

    30 °C (25 – 38 °C)

    電壓

    約 1 – 3 伏

    電流密度

    陰極:

    20 A/dm2 (10 – 50 A/dm2)

    強極:

    2.0 – 5.5 A/dm2

    要點:

    要達到最大的陰極電流密度,錫濃度及酸濃度是主要影響因素

    電流效益

    90 – 100 %

    沉積速度

    10 微米/分鐘(當 20 A/dm2

    要點:


    要達到的陰極電流密度,錫濃度及酸濃度是主要影響因素




    () 配制鍍液

     

     

    在開缸之前,請小心檢查鍍槽及設備,以防泄漏。

     

     

    1. 若鍍槽之前是在類似的甲基磺酸系統(tǒng)下使用,請將所有鍍液(包括所有喉管、過濾裝置及泵)排放干凈;

     

    2.  50-100 毫升/升的甲基磺酸液 SOLDERPLATE 清洗所有鍍槽,喉管及過濾系統(tǒng),最少 3 小時,浸泡過夜更佳

     

    若鍍槽是新的,或有使用過潤滑劑、活性劑,建議用 50-100 克/升氫氧化

     

    鉀作預洗,再作以后的清洗步驟。

     

    3. 排放所有已清洗的甲基磺酸液 SOLDERPLATE(注意當?shù)氐呐欧乓?guī)則),并以純水沖洗鍍槽、所有喉管及過濾系統(tǒng),更換過濾芯;

     

    4. 注入半缸純水;

     

    5. 加入所需份量甲基磺酸液 SOLDERPLATE,并加以攪拌;

     

    6. 待溶液溫度降至 35℃,加入所需份量的甲基磺酸錫 SOLDERPLATE 并加以攪拌;

     

    7. 加入高速光亮純錫 HSB 走位劑,其后再加入高速光亮純錫 HSB 光亮劑;

     

    8. 加入純水至標準水位,開動過濾泵循環(huán),約 15 分鐘;

     

    9. 鍍液已可使用。

     

    (四)設備

    鍍槽

    聚丙烯,聚乙烯,聚二氯乙烯或塑料內層鋼鐵

    攪拌

    陰極移動及鍍液攪拌(高速沉積速度)

    過濾

    連續(xù)過濾,無氣體 1-5 微米的聚丙烯過濾芯。建議每小時能過濾整缸鍍液 5-8 次。

    抽氣

    需要。

    加熱/冷卻

    PTFE,鈦,陶瓷。

    陽極

    純錫陽極。若需要時,可用鈦籃裝載純錫陽極,但要保證使用電壓低于 6 伏。鈦籃必須保持常滿,以防止對鈦籃的侵蝕。

    如果陽極電流密度過高,會導致不平均的陽極溶解,形成四價錫的出現(xiàn)。

    陽極袋

    聚丙烯。

     

    五)補充及維護

     10,000 安培小時

    高速光亮純錫 HSB 光亮劑

    2.0 – 4.0

    高速光亮純錫 HSB 走位劑

    1.0 – 2.0

          

    高速光亮純錫 HSB 光亮劑及高速光亮純錫 HSB 走位劑的消耗,取決于應用條件、設備及操作條件。帶出消耗亦會影響消耗量。

     

    游離甲基磺酸只有帶出消耗  建議定期分析

    甲基磺酸錫 SOLDERPLATE

    300 克/升 Sn2+,60 克/升游離

    甲基磺酸,密度 1.54

    每補充 3.33 毫升/升甲基磺酸錫 SOLDERPL

    錫濃度 1 克/升

    游離甲基磺酸 0.2 克/升。

    甲基磺酸液 SOLDERPLATE

    945 克/升游離甲基磺酸,70%,

    密度 1.35

    每補充 1.06 毫升/升甲基磺酸液 SOLDERPLATE,能增加游離甲基磺酸 1 克/升。

     

    注意:補充甲基磺酸錫 SOLDERPLATE 會增加游離甲基磺酸

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