MILA-5000系列
MILA-5000系列加熱爐體使用紅外金面退火爐，可以進行快速升降溫，潔凈加熱。MILA-5000系列將溫控器與石英加熱腔集成于一體的經濟型退火爐，可以在不同的氣氛下進行加熱?？赏ㄟ^USB連接電腦并進行監(jiān)測與加熱程序設置。

MILA-5000UHV
MILA-5000UHV是一款在MILA-5000-P-N（高溫型）基礎上升級的一款高真空型退火爐。該系列繼承了MILA-5000系列的的特點：快速升降溫，潔凈加熱，可在不同的氣氛下加熱。同樣可以通過USB連接PC進行溫度監(jiān)測與加熱程序設置。

應用

MILA-5000系列

• 鐵電薄膜的晶體退火。
• 離子注入后的擴散退火，氧化膜沉積退火。
• 硅和復合晶片的燒結，合金化處理。
• 玻璃基板溫度均勻退火。
• 熱循環(huán)，熱沖擊，熱疲勞測試。
• 程序升溫解吸測試，催化效果測試。

MILA-5000UHV

• 在超高真空中進行熱處理。
• 程序升溫解吸氣體分析爐。

特點

MILA-5000系列

• 1. 50℃/S的快速升溫.
• 2. 可在真空，惰性氣體，流動氣氛，空氣的氣氛下進行加熱
• 3. 精確的溫度控制
• 4. 緊湊，桌面型設計
• 5. 通過USB連接電腦與爐體，可進行溫控程序的編輯與傳輸
• 加熱過程中可通過電腦監(jiān)測加熱數(shù)據

MILA-5000UHV

• 可進行超高真空的熱處理
• 搭配分子泵，真空度可達到10^-5Pa
• 繼承了MILA-5000-P-N的全部特點
• 緊湊，桌面型設計
• 通過USB連接電腦與爐體，可進行溫控程序的編輯與傳輸
• 加熱過程中可通過電腦監(jiān)測加熱數(shù)據

參數(shù)

MILA-5000系列

* 真空泵可選
* 加熱溫度or升溫速率根據被加熱樣品的紅外反射率，吸收率，熱容和材料而變化。

高真空型

* 真空泵可選
* 加熱溫度or升溫速率根據被加熱樣品的紅外反射率，吸收率，熱容和材料而變化。

オプション例

高溫型

MILA-5000-P-N 最快升溫速率
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
Rating : 200V 4kW, 100%output is not

MILA-5000-P-N 溫度分布
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
測溫方式：K型熱電偶

Unib heating type

MILA5000-P-F最快升溫速率
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
Rating : 200V 1kW, 100%output is not necessay

MILA-5000-P-F 溫度分布
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：N₂流動氣氛
測溫方式：K型熱電偶

高溫型

MILA5000-P-N型昇溫速度
サンプル :  W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V4kW100%出力

MILA5000-P-N型溫度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : 真空中
TC（K）測定點

均熱型

MILA5000-P-F型昇溫速度
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V1kW100%出力

MILA5000-P-F型溫度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : N2ガスフロー中
TC（K）測定點