能在金屬，半導(dǎo)體，絕緣體甚至塑料，紙張，織物表面上沉積金屬，半導(dǎo)體，絕緣體，不同成分比的合金，化合物及部分有機(jī)聚合物等的薄膜，其適用范圍之廣是其他方法無(wú)法與之比擬的；可以不同的沉積速度，不同于基板溫度和不同的蒸汽分子入射角蒸鍍成膜，因而可得到不同顯激結(jié)構(gòu)和結(jié)晶形態(tài)（單晶，多晶或非晶體等）的薄膜；
薄膜的純度很高；
易于在線檢測(cè)和控制薄膜的厚度與成分。厚度控制精度最高可達(dá)單分子層量級(jí)；
排出污染物很少且基本上沒(méi)有。