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一、真空管式爐用途

 真空管式爐主要應(yīng)用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗和小批量生產(chǎn)之用。主要用于粉體、電子、陶瓷等其它產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（CVD）工藝等

二、真空管式爐結(jié)構(gòu)

1.爐體采用雙層爐殼結(jié)構(gòu)，雙層爐殼之間裝有風(fēng)機，可以快速升降溫，爐殼表面溫度低。

2.爐管采用99高純剛玉管、兩端采用SUS304高真空法蘭密封。

3.爐膛材料采用優(yōu)質(zhì)的進口氧化鋁多晶纖維真空吸附制成，節(jié)能50%，加熱爐膛為一體化，方便取放實驗物料、更換爐管。加熱元件采用硅碳棒。

4.電爐溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、模糊控制、自整定能力并可編制各種升溫程序等功能，該控制系統(tǒng)溫度顯示精度為±1℃，溫場穩(wěn)定度±5℃，升溫速率1~20℃可任意設(shè)置。

5.真空度可以達到10Pa

三、真空管式爐參數(shù)

注：可根據(jù)用戶要求另行設(shè)計制造，更多規(guī)格及參數(shù)和詳細技術(shù)方案請來電咨詢！