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EDI純水成套設(shè)備是結(jié)合了電滲析與離子交換兩項技術(shù)各自的特點而發(fā)展起來的一項新技術(shù)。另一方面可以又對樹脂起就地再生的作用，因此EDI不需要對樹脂進(jìn)行再生，可以省掉離子交換所必需的酸堿貯罐，也減少了環(huán)境污染。 因此EDI去離子水系統(tǒng)具有比傳統(tǒng)混床更大的優(yōu)點。

EDI純水成套設(shè)備優(yōu)點： 
1.出水水質(zhì)具有最佳的穩(wěn)定度。
2.能連續(xù)生產(chǎn)出符合用戶要求的超純水。 
3.模塊化生產(chǎn)，并可實現(xiàn)PLC全自動控制。 
4.不需酸堿再生，無污水排放。降低了勞動強(qiáng)度，節(jié)省了酸堿和大量清潔水，減少了環(huán)境污染。
5.不會因再生而停機(jī)。

EDI純水成套設(shè)備技術(shù)參數(shù)：
1.進(jìn)水水質(zhì)要求：
進(jìn)水電導(dǎo)率：<20 μs/cm
溫度：5-40°C
PH：4 - 11
總硬度（CaCO3）：<1.0 ppm
2.EDI模塊：
產(chǎn)水流量：0.5T-5T
標(biāo)準(zhǔn)回收率：90－95％
最大進(jìn)水壓力：100psi
3.產(chǎn)水水質(zhì)(依進(jìn)水水質(zhì)而定) ：
產(chǎn)水電阻率：>16 MΩ?cm
SiO2去除率：進(jìn)水的90-99% 

EDI純水成套設(shè)備適用范圍：
1.電力工業(yè)  2.制藥工業(yè)  3.電子工業(yè)  
4.電鍍與金屬表面處理 

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