| 超高真空光柵 | ||||||||||||||||||||||
| TONiC UHV | ||||||||||||||||||||||
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| 概述 | ||||||||||||||||||||||
| TONiC UHV圓光柵讀數(shù)頭與雷尼紹帶有IN-TRAC?光學(xué)零位的精密圓光柵兼容，包括RESM和REXM超高精度圓光柵。這些光柵系統(tǒng)在超高真空條件下提供保真度非常高的位置反饋。TONiC UHV圓光柵在2010年第二季度上市，用于高性能和可靠性要求極高的半導(dǎo)體和科學(xué)應(yīng)用。 | ||||||||||||||||||||||
| 高性能TONiC增量式讀數(shù)頭 | ||||||||||||||||||||||
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所有TONiC讀數(shù)頭均使用最新一代雷尼紹光學(xué)濾波系統(tǒng)，經(jīng)過(guò)優(yōu)化，噪聲超低。包括自動(dòng)增益控制 (AGC) 和自動(dòng)偏移量控制 (AOC) 在內(nèi)的動(dòng)態(tài)信號(hào)調(diào)整進(jìn)一步增強(qiáng)了先進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)。因此，輸出信號(hào)具有無(wú)與倫比的信號(hào)純度，細(xì)分誤差 (SDE) 為±30 nm，噪聲（抖動(dòng)）達(dá)0.51 nm RMS，分辨率達(dá)0.00075角秒。 所有TONiC柵尺均包括直接嵌入到增益通道中的獨(dú)特IN-TRAC光學(xué)零位，只需單擊按鈕即可以方便地實(shí)現(xiàn)自動(dòng)電子調(diào)相 — 因此，這一功能也可遠(yuǎn)程執(zhí)行。IN-TRAC光學(xué)零位還具有在所有速度和整個(gè)工作溫度范圍內(nèi)保持相位一致的優(yōu)點(diǎn)。 |
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| 高精度單片式不銹鋼圓光柵 | ||||||||||||||||||||||
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RESM圓光柵由沒(méi)有涂層的單片式300系列不銹鋼制成，這意味著它可按照需要進(jìn)行專(zhuān)業(yè)清洗和去脂。該圓光柵具有一個(gè)大通孔和小截面，因此簡(jiǎn)化了設(shè)計(jì)，同時(shí)還最大程度降低了質(zhì)量和轉(zhuǎn)動(dòng)慣量。此外，它采用雷尼紹具有專(zhuān)利的錐面安裝方式，可提供一種實(shí)現(xiàn)精細(xì)調(diào)整的簡(jiǎn)單方法，而且在很寬的溫范圍內(nèi)具有高水平的穩(wěn)定性。用于UHV應(yīng)用的RESM圓光柵供有直徑范圍從52到550 mm的尺寸，還可根據(jù)要求提供定制尺寸或更大直徑。 對(duì)于最高性能的軸，TONiC UHV還可與REXM超高精度圓光柵兼容。與讀數(shù)頭配合使用時(shí)，直徑超過(guò)100 mm的REXM圓光柵總體安裝精度優(yōu)于±1角秒。增加第二個(gè)讀數(shù)頭現(xiàn)在變得非常容易，得益于DSi雙信號(hào)接口兼顧增益通道和光學(xué)零位信號(hào)組合，因此輸出對(duì)于控制器來(lái)說(shuō)相當(dāng)于一個(gè)精度非常高的光柵輸入。 TONiC UHV讀數(shù)頭由精選的低出氣率材料和粘合劑在指定的潔凈條件下制造而成。該產(chǎn)品封裝在一個(gè)真空兼容袋中以維持清潔。 |
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| 殘留氣體分析 (RGA) 測(cè)試結(jié)果 | ||||||||||||||||||||||
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通過(guò)獨(dú)立殘留氣體分析 (RGA) 測(cè)試證明整個(gè)系統(tǒng)適用于潔凈真空條件。它還適用于超真空中使用的120攝氏度的烘焙。 典型應(yīng)用包括晶片處理、晶片檢測(cè)和科研。
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