清洗對象：適用于太陽能、半導(dǎo)體行業(yè)的單晶、多晶硅片的清洗；
清洗介質(zhì)：純水、堿性藥液；
傳輸方式：多臂機械手傳輸；
清洗工藝：液下超聲上料→超聲溢流清洗槽1→超聲波藥液清洗槽2→超聲波溢流清洗槽3→超聲波藥液清洗槽4→超聲溢流清洗槽5→超聲溢流清洗槽6→慢提拉脫水→熱風(fēng)循環(huán)烘干→下料
設(shè)備特點：
1、超聲波發(fā)生器功率強勁、效率高、運行可靠；
2、超聲波發(fā)生器采用它激式電路，配置國際先進的自動掃頻電路，功耗低、消除清洗駐波、使清洗更加均勻徹底；
3、超聲溢流清洗槽采用后道向前道溢流的方式，有效節(jié)約水資源；
4、超聲藥液清洗槽配循環(huán)過濾系統(tǒng)，能夠保持藥液的潔凈度；
5、超聲波溢流清洗槽和超聲波藥液清洗槽均帶拋動系統(tǒng)，拋動頻率及上下拋動幅度均可調(diào)；
6、設(shè)低液位自動保護報警裝置，低液位時自動關(guān)閉加熱和超聲，安全系數(shù)高；
7、設(shè)備采用多臂機械手傳輸，運行平穩(wěn)可靠、承載力大，清洗效率高；
8、PLC觸摸屏等電氣控制系統(tǒng)具有過載保護、漏電保護、故障自動報警、聯(lián)動與互鎖等功能；
9、 整體采用不銹鋼材料精工制造，美觀大氣。設(shè)備全封閉結(jié)構(gòu)，避免工作環(huán)境污染，潔凈環(huán)保；
