| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | Nidek | ||
| 產(chǎn)品特性 | 測(cè)量?jī)x | ||
| 是否進(jìn)口 | 否 | ||
| 產(chǎn)地 | 東莞 | ||
| 加工定制 | 否 | ||
| 測(cè)量范圍 | 100 | ||
| 測(cè)量精度 | 0.002 | ||
| 分辨率 | 0.002 | ||
| 電源電壓 | 10 | ||
| 可售賣(mài)地 | 全國(guó) | ||
| 用途 | 測(cè)晶片翹曲度 | ||
| 型號(hào) | ft-17 | ||
Nidek 晶片平坦度/翹曲度測(cè)量?jī)xFT-17和FT-900(Si/Ge/GaAs/InP/SiC/LT/LN)
Nidek高精密平面度檢測(cè)儀, 適用于透明晶體物體（如藍(lán)寶石晶片等）和LED外延晶片、芯片的檢測(cè)。
其應(yīng)用不僅局限于對(duì)藍(lán)寶石襯底單面/雙面的表面平坦檢測(cè)，而且更多地應(yīng)用于對(duì)外延之后，外延層表面品質(zhì)、TTV等的檢測(cè)和評(píng)估。
在電腦顯示屏上，它可自動(dòng)生成三維立體的表面彩色效果圖，以幫助人們清楚細(xì)微地、直觀地了解和掌握對(duì)象物表面層生長(zhǎng)的情況。
此外，它也適用于液晶電視屏幕面板所需要的大而平的圖形掩膜的檢測(cè)。
Nidek高精密平面度檢測(cè)儀, 適用于透明晶體物體（如藍(lán)寶石晶片等）和LED外延晶片、芯片的檢測(cè)。
其應(yīng)用不僅局限于對(duì)藍(lán)寶石襯底單面/雙面的表面平坦檢測(cè)，而且更多地應(yīng)用于對(duì)外延之后，外延層表面品質(zhì)、TTV等的檢測(cè)和評(píng)估。
在電
測(cè)試項(xiàng)腦顯示屏上，它可自動(dòng)生成三維立體的表面彩色效果圖，以幫助人們清楚細(xì)微地、直觀地了解和掌握對(duì)象物表面層生長(zhǎng)的情況。
該產(chǎn)品目前已在國(guó)內(nèi)大手廠商中廣泛采用，特別是在外延片的品質(zhì)檢測(cè)方面。頗受好評(píng)。
據(jù)不完全統(tǒng)計(jì)，至2012年底該產(chǎn)品已被國(guó)內(nèi)LED襯底和外延片80多家廠家所使用。
吸附：GFLR、GF3D、GF3R、TV、GBIR、TAPER、TAng、SFLR、SFLD、SFQR、SF3R、SF3D、SBIR、SBID
非吸附：BOW、SORI、整體應(yīng)力、局部應(yīng)力
可測(cè)試晶片種類(lèi)
切割片、研磨片、拋光片、外延片、磊晶片
可選配光刻區(qū)域模擬軟件、應(yīng)力分析軟件等
FT-17 Series | FT-900 Series | |||||
無(wú)解析 無(wú)顯示 | 帶解析 | 帶解析 （V2規(guī)格） | 無(wú)解析 無(wú)顯示 | 帶解析 | 帶解析 （V2規(guī)格） | |
測(cè)定方法 | 光波干涉方式（斜入射） | |||||
光源 | 半導(dǎo)體激光（655nm、3mW） | He-Ne激光（632.3A、5mW） | ||||
樣本尺寸 | 直徑130mm以下 （平坦度測(cè)定100mm以下） | 直徑200mm以下 | ||||
樣本厚度 | 2000um以下（根據(jù)測(cè)量承載臺(tái)不同，大可達(dá)10mm），其他厚度需客戶(hù)另行協(xié)商 | |||||
樣本種類(lèi) | Wafer（Si、化合物、酸化物、玻璃）、金屬片、硬盤(pán)（鋁、玻璃）等鏡面和非鏡面（反射率低的非鏡面不可測(cè)試） | |||||
樣本傾斜角度 | 垂直方向傾斜8度 | 垂直或垂直方向傾斜8度 | ||||
干涉計(jì)設(shè)定敏感度 | 1、2、3、4、5u/紋理（下底面基準(zhǔn)時(shí)只有1、2um/紋理，且厚度1mm以上時(shí)1um/紋理） | |||||
測(cè)定范圍 | 紋理敏感度30倍（根據(jù)紋理狀況以及測(cè)試鏡頭倍率關(guān)系，有時(shí)不能達(dá)到30倍） | |||||
攝影鏡頭倍率 | 3倍以上 | |||||
顯示分解能 | 0.01um | 0.01um | ||||
重復(fù)精度 Repeatability:1б | 0.02S＋0.02M（um） 條件：樣本設(shè)定后連續(xù)測(cè)試 S：紋理敏感度 M：測(cè)定值 | 0.02S＋0.02M（um） 條件：樣本設(shè)定后連續(xù)測(cè)試 S：紋理敏感度 M：測(cè)定值 | ||||
