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產品簡介
鑫有研光刻機（lithography）掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)
鑫有研光刻機（lithography）掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)
產品價格：￥160000.00
上架日期：2023-12-17 23:45:49
產地：北京北京
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詳細說明
    產品參數
    品牌鑫有研








    光刻機（lithography）又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
    曝光系統(tǒng)最核心的部件之一是紫外光源。
    常見光源分為:
    可見光：g線：436nm
    紫外光（UV），i線：365nm
    深紫外光（DUV）,KrF 準分子激光：248 nm, ArF 準分子激光：193 nm
    極紫外光（EUV），10 ~ 15 nm

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