儀器介紹
可以現(xiàn)場(chǎng)增加通道，配置升級(jí)更加容易
一臺(tái)儀器可多個(gè)基體共存，激發(fā)能量可以程序調(diào)節(jié)
最小分析樣品直徑≥９mm,厚度≥1mm
電磁波輻射小，對(duì)人體無(wú)危害
性能特點(diǎn)
儀器全年工作，顯示出無(wú)以倫比的硬件穩(wěn)定性和可靠性
儀器可在約50s的時(shí)間里，同時(shí)分析多達(dá)64個(gè)分析通道
單光譜室，維護(hù)保養(yǎng)簡(jiǎn)單方便
工廠校準(zhǔn)，能對(duì)基體效應(yīng)和譜線重疊干擾進(jìn)行校正
使用經(jīng)認(rèn)證的國(guó)際標(biāo)樣制作工作曲線和校準(zhǔn)曲線，大大提高了分析準(zhǔn)確度
光源設(shè)計(jì)緊湊，安裝在緊挨著激發(fā)臺(tái)的一個(gè)法拉第籠中，有效地防止電磁波的泄漏，改善綜合穩(wěn)定性
采用高質(zhì)量的真空光學(xué)系統(tǒng)，38℃±0.1℃恒溫技術(shù)確保儀器的穩(wěn)定性
重復(fù)性≤2.0%（RSD）
穩(wěn)定性（24小時(shí)）≤3.0%（RSD）
技術(shù)參數(shù)
分光室設(shè)計(jì)：一米焦距，帕邢龍格裝置，真空型（真空度≤3Pa),恒溫控制（38℃±0.1℃),特殊的鑄鐵材料，變形小。
最多通道數(shù)：64個(gè)
凹面光柵：2160gr/mm,逆線色散率0.47nm/mm,波長(zhǎng)范圍170-463nm,曲率半徑998.8mm
狹縫寬度：入射狹縫20μm,出射狹縫70-130μm
光電倍增管：Φ13.5mm,10級(jí)側(cè)窗型，熔融石英或玻璃外殼，管座不會(huì)產(chǎn)生弧光。
分辨率：視光柵，出射狹縫和光譜等級(jí)而定
分析時(shí)間：視樣品類而定，一般不到50s
激發(fā)光源：利用高壓電火花放電，放電頻率200H或400Hz,放電間隙3.5mm
光譜儀檢測(cè)：傳統(tǒng)的分段積分法測(cè)光，利用FPGA技術(shù),控制整個(gè)儀器的工作狀態(tài)
標(biāo)準(zhǔn)配置
標(biāo)準(zhǔn)配置8個(gè)分析通道
OES1000VM Ⅰ應(yīng)用分析軟件
測(cè)量控制箱
高壓電火花光源箱
恒溫、真空系統(tǒng)
直聯(lián)旋轉(zhuǎn)真空泵
1KVA交流凈化電源
5KVA交流參數(shù)穩(wěn)壓器
筆記本電腦、臺(tái)式打印機(jī)
應(yīng)用領(lǐng)域
OES1000VM I型多道光電直讀光譜儀是分析黑色金屬及有色金屬成份的快速定量分析儀器。最適合用于日常生產(chǎn)控制、質(zhì)量管理和特殊分析研究是控制產(chǎn)品質(zhì)量的有效手段之一。
