電子工業(yè)廢氣處理通常使用絕緣材料、有機(jī)溶劑、清洗劑、顯影劑、光刻、蝕刻溶液等含有大量有機(jī)物的成分。在接下來(lái)的加工工藝中，這些有機(jī)溶劑根據(jù)揮發(fā)轉(zhuǎn)化為廢氣排放。目前，對(duì)于此類廢氣的排放，可以采用焚燒、活性炭吸附、冷凝、沸石旋轉(zhuǎn)萃取+焚燒、光催化氧化、高溫等離子體凈化等六種方法。
1、焚燒處理(RTO):能耗和運(yùn)行成本高，適用于解決高濃度、低風(fēng)速的有機(jī)氣體；
2、活性炭吸附法(活性炭):投資小，處理工藝簡(jiǎn)單，易飽和，必須結(jié)合解吸、冷凝、焚燒等方法才能達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)；
3、冷凝法：結(jié)合吸收、活性炭吸附等方法，用活性炭吸附提取有機(jī)氣體，然后冷凝提取，回收有用的有機(jī)化合物。這種方法常用于處理高濃度、低風(fēng)速的有機(jī)廢氣。缺點(diǎn)是：投資、能耗、運(yùn)行費(fèi)用高。冷凝水回收凈化后，很大一部分廢液仍需進(jìn)一步處理。
4、沸石旋轉(zhuǎn)萃取+焚燒：沸石旋轉(zhuǎn)濃縮設(shè)備主要依賴進(jìn)口，獨(dú)立的機(jī)械設(shè)備尚不成熟。加工工藝也與生產(chǎn)設(shè)備和制造工藝有匹配關(guān)系；
5、光催化氧化法：在機(jī)械設(shè)備中使用C波段(僅低于激光切割不銹鋼板，比氬弧焊光源強(qiáng)幾十倍)，強(qiáng)烈裂解惡臭成分的分子鏈，改變組成結(jié)構(gòu)，將高分子材料的污染源成分裂解氧化成低分子無(wú)害成分，如水、二氧化碳等；
6、高溫等離子技術(shù)凈化處理：通過(guò)壓縮和高壓聚能充放電的高溫等離子技術(shù)。當(dāng)反應(yīng)器的壓力增加時(shí)，廢氣的體積大大膨脹。在高溫和高電位的雙向作用下，有機(jī)氣體瞬間(十分之五秒)變成高溫等離子體技術(shù)，中長(zhǎng)分子鏈裂解成元素原子，有機(jī)化合物的凈化率在90%左右。
