廢氣凈化塔的適用范圍：
電鍍、表面處理、單晶硅酸洗、半導體清洗、電子制造、漆包線、噴涂用廢氣凈化塔
漆噴涂、涂裝生產(chǎn)等行業(yè)及領域。屬于兩相逆流氣體凈化塔填料吸收塔。廢氣從廢氣處理塔的下入口切向地進入凈化塔。在風扇的動態(tài)作用下，它快速地填充進氣段的空間，然后均勻地通過平衡段上升到填料吸收段。在填料表面，氣相中的酸性（或堿性）物質(zhì)與液相中的堿性（或酸性）物質(zhì)發(fā)生反應，反應物（主要是可溶性酸（堿）與吸收劑流入較低的儲罐。未完全吸收的酸性（或堿性）氣體繼續(xù)上升到階段的噴霧。
適用于電鍍生產(chǎn)廢氣凈化塔、表面處理、單晶硅酸洗、半導體、電子制造、漆包線噴漆清潔和涂料生產(chǎn)等行業(yè)和領域。
光氧催化是對光催化氧化工藝的一種升級改進，把微波加熱與催化劑加快化程反應的優(yōu)點結(jié)合起來，利用微波加熱的特點提供高溫高壓，與催化劑共同作用降低化學反應的活化能(分子從常態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)槿菀装l(fā)生化學反應的??！ 〗Y(jié)合實際生產(chǎn)過程，采用了連續(xù)的吸附-脫附-再生操作程序。在甲苯回收工程中，設計選用了三箱吸附系統(tǒng)。3個吸附器共用一套管路系統(tǒng)，運行時可相互切換。含的廢氣經(jīng)過預處理后依次進入3個吸附器，當吸附器1吸附飽和后，切換到吸附器2吸附，吸附器2吸附飽和后，再切換到吸附器3吸附；脫附-干燥再生工序也是依次進行。
等離子體目前采用的有四類，介質(zhì)阻擋放電（雙介質(zhì)、單介質(zhì)）、放電（金屬、纖維）、板式放電、微波放電，實際應用也有采用組合模式。因其電離后產(chǎn)生的電子均能量在10ev，適當控制反應條件可以實現(xiàn)一般情況下難以實現(xiàn)或速度很慢的化學反應十分快速。 其配套電器均采用自動保護設施,適應24h不間斷運行，尤其適用于大型連續(xù)化生產(chǎn)的高要求企業(yè)。該洗滌塔，氣流的運動方向和噴淋藥劑的方向是交叉的，由于結(jié)構(gòu)緊密，大大降低了處理系統(tǒng)的高度，單機的處理風量達5000m3/min以上?！ ∵^濾材料采制成框加架，內(nèi)夾過濾材料，過濾器安裝在金屬箱，定期更換。吸附氣體流程：待處理的有機廢氣由風管引出后進活性炭吸附床，氣體進入吸附床后，氣體中的有機物質(zhì)被活性炭吸附而著附在活性炭的表面，從而使氣體得以凈化，凈化后的氣體再通過風機排向大氣。
正常情況下設備保養(yǎng)如下所示：1、機體通風孔需保持通暢，以免發(fā)生故障，動作異常。2、為避免光氧催化廢氣處理裝置發(fā)生機器故障，請?zhí)峁╊~定電壓范圍內(nèi)的電源。3、禁止擅自拆卸、加工、改造或修理光氧催化廢氣處理裝置，否則會產(chǎn)生異常動作、觸電或火災的危險?！ ?原料系統(tǒng)除塵燒結(jié)原料工藝過程中，在原料的解收、混合、破碎、篩分、運輸和配料的各個工藝設備點都產(chǎn)生大量的粉塵。原料系統(tǒng)除塵，可采用濕法和干法除塵工藝。除塵系統(tǒng)可采用分散式或集中式。分散式除塵系統(tǒng)的除塵設備可采用沖激式除塵器、泡沫除塵器和脈沖袋式除塵器等?！ 」腆w廢物應分類收集、貯存，一般工業(yè)固體廢物暫存場按一般工業(yè)固體廢物貯存、處理場污染控制標準(GB18599-2001)及其修設置；危險廢物暫存場及日常管理嚴格執(zhí)行危險廢物貯存污染控制標準（GB18597-2001）及其修要求設置?！ ∨c的電暈放電形勢產(chǎn)生的低溫等離子相比較，等離子體放電密度是電暈放電的1500倍，這就是低溫等離子體治理工業(yè)廢氣99%以失敗而告終的原因。與目前國內(nèi)常用的異味氣體治理方法相比較，等離子體工業(yè)廢氣處理具有以下特點：低溫等離子體應用于惡臭氣體治理，具有處理效果好，運行費用低廉、無二次污染、運行、操作管理簡便、即開即用等優(yōu)點。
