二、UV光催化除臭設備工作原理：
有機廢氣氣體處用排風設備輸入到光催化除臭設備后，運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同分解氧化反應,使惡臭氣體物質其降解化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。
三、UV紫外光光催化除臭設備技術介紹 
本產品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體和TiO2光催化，催化裂解惡臭氣體如：氮、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、K2S2、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
TiO2光催化的催化化性在很大程度上影響光催光反應速率，而TiO2光催光活性主要受TiO2的晶型和粒徑的影響。銳鈦型TiO2的催化活性高。隨著粒徑的減少，電子與空穴簡單復合的概率降低，光催化活性增大。另外，孔隙率、平均孔徑、粒子表面狀態(tài)，純度等對其光催化活性也均有一定影響。為了提高光降解效率，對TiO2光催化劑進化改性，如研制納米TiO2，制備TiO2的復合半導體，金屬離子摻雜、染料光敏化等。也可以采用各種先進的手段制備TiO2催化劑，以提高光催化劑的活性。
利用高能臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需氧分子結合，進而產生臭氧。UV+O2→O一+O*（活性氧）O+O2→O3（臭氧），眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的效果。
利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的。UV紫外光光催化除臭設備產品特點：
①運行成本低：本設備能耗低（每處理1000m3/h，僅耗電0.54度），無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，設備風阻低<30pa,可節(jié)約大量排風動力能耗。
②無預處理和環(huán)境要求:惡臭氣體無需進行特殊的預處理,如加溫、加濕等，設備工作環(huán)境度在攝氏-300C-950C之間，溫度在30%-98%、PH值在3-11之間均可正常工作。
③設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件，設備占地面積<1.5平方米/處理10000m3/h風量。
④優(yōu)質材料制造:防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定、使用壽命長等。
⑤環(huán)保高科技產品：采用國際上的技術理念，通過及我公司工程技術人員長期反復的試驗，開發(fā)研制的設備產品，可徹底分解惡臭氣體中有毒有害物質，并能達到完美的脫臭效果，經過分解后的惡臭氣體，可完全達到無害化排放，絕不會產生二次污染，同時達到高效快速消毒殺菌的作用。 
⑥高效快速除惡臭：能高效快速去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達90%上,脫臭效果大大超過頒布的惡臭污染物排放標準(GB14554-93)。
⑦無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。
⑧適應性能強：可適應高濃度、大氣量、不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行安全穩(wěn)定可靠。
|
除臭處理技術 |
設備 投資 |
處理 風量 |
處理 濃度 |
運營 成本 |
運行 管理 |
脫臭 效率 |
二次 污染 |
|
直接燃燒法 |
高 |
小 |
高 |
高 |
難 |
高 |
有 |
|
活性炭吸附法 |
低 |
中 |
低 |
高 |
易 |
低 |
無 |
|
化學催化法 |
高 |
小 |
高 |
高 |
難 |
高 |
有 |
|
臭氧除臭法 |
高 |
中 |
中 |
高 |
難 |
中 |
無 |
|
生物洗滌分解法 |
中 |
中 |
中 |
低 |
難 |
中 |
有 |
|
等離子裂解法 |
高 |
大 |
低 |
低 |
易 |
中 |
無 |
|
UV光解法 |
低 |
大 |
高 |
低 |
易 |
高 |
無 |
UV光解廢氣處理法與其他處理方法的比較
附：《中華人民共和國標準－惡臭污染排放標準》GB14554-93
惡臭污染物廠界標準值是對無組織排放源（指沒有排氣筒或排氣筒高度低于15m的排放源）的限值，見表。
|
序號 |
控制項目 |
單位 |
一級 |
二級 |
三級 |
||
|
新擴改建 |
現(xiàn)有 |
新擴改建 |
現(xiàn)有 |
||||
|
1 |
氨 |
mg/m3 |
1.0 |
1.5 |
2.0 |
4.0 |
5.0 |
|
2 |
胺 |
mg/m3 |
0.05 |
0.08 |
0.15 |
0.45 |
0.80 |
|
3 |
硫化氫 |
mg/m3 |
0.03 |
0.06 |
0.10 |
0.32 |
0.60 |
|
4 |
甲硫醇 |
mg/m3 |
0.004 |
0.007 |
0.010 |
0.020 |
0.035 |
|
5 |
甲硫醚 |
mg/m3 |
0.03 |
0.07 |
0.15 |
0.55 |
1.10 |
|
6 |
K2S2 |
mg/m3 |
0.03 |
0.06 |
0.13 |
0.42 |
0.71 |
|
7 |
二硫化碳 |
mg/m3 |
2.0 |
3.0 |
5.0 |
8.0 |
10 |
|
8 |
苯乙烯 |
mg/m3 |
3.0 |
5.0 |
7.0 |
14 |
19 |
|
9 |
臭氣濃度 |
無量綱 |
10 |
20 |
30 |
60 |
70 |
惡臭污染物廠界標準值
|
物質名稱 |
惡臭氣體主要來源 |
|
硫化氫 |
牛皮紙漿、煉油、煉焦、石化、煤氣、糞便處理、二硫化碳的生產或加工 |
|
硫醇類 |
牛皮紙漿、煉油、煤氣、制藥、農藥、合成樹酯、合成纖維、橡膠 |
|
硫醚類 |
牛皮紙漿、煉油、農藥、垃圾處理、生活污水下水道 |
|
氨 |
氮肥、硝酸、煉焦、糞便處理、肉類加工 |
|
胺類 |
水產加工，畜產加工、皮革、骨膠 |
|
類 |
糞便處理、生活污水處理、煉焦、肉類腐爛、屠宰牲畜 |
|
硝基 |
燃料 |
|
烴類 |
煉油、煉焦、石油化工、電石、化肥、內燃機排氣、油漆、溶劑、油墨印刷 |
|
醛類 |
煉油、石油化工、醫(yī)藥、內燃機排氣、垃圾處理、鑄造 |
惡臭氣體的主要來源
四、UV紫外光光催化除臭設備的適應范圍：
適用于噴漆廢氣處理、油墨廢氣處理、塑膠廢氣處理、化工廢氣處理、制藥廢氣處理、污水池臭氣處理、鉰料廢氣處理、鑄造廢氣處理等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化 (廣泛用于覆膜砂廢氣處理，飼料發(fā)酵廢氣處理、噴漆廢氣處理、漆包線廢氣處理等）。
產品信息：
一、UV紫外光光解催化除臭設備產品簡介：
UV紫外光光催化除臭設備又稱之為紫外光除臭設備，光電離子廢氣凈化設備，光解催化氧化廢氣凈化設備等。它是一種能高效快速去除揮發(fā)性有機物、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇、苯等各種惡臭氣體的環(huán)保設備。脫臭效果較好，脫臭效果大大超過頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）。
紫外光光催化除臭設備廣泛應用于噴漆廢氣處理、油墨廢氣處理、塑膠廢氣處理、化工廢氣處理、制藥廢氣處理、污水池臭氣處理、飼料廢氣處理、鑄造廢氣處理等各種有污染源惡臭氣體的廢氣處理脫臭凈化。
