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  PDC-32G-2Harrick 基本型等離子清洗機的詳細資料
  等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機污染物被徹底地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。
  基本型等離子清洗機廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。
  基本型等離子清洗機應(yīng)用：
  1. 高分子材料表面修飾。
  2. 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
  3. 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。
  4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
  5. 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。
  6. 清洗生物芯片、微流控芯片。
  7. 清洗沉積凝膠的基片。
  8. 清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
  9. 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
  10. 改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的
  粘和力。
  基本型等離子清洗機
  http://www.first-nano.com/SonList-1417835.html
  http://www.chem17.com/st326752/erlist_1417835.html