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產(chǎn)品簡介
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 應(yīng)用于 AlTiN 涂層研究
KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 應(yīng)用于 AlTiN 涂層研究
產(chǎn)品價(jià)格:¥11
上架日期:2021-01-05 15:44:33
產(chǎn)地:美國
發(fā)貨地:本地至全國
供應(yīng)數(shù)量:不限
最少起訂:1臺
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詳細(xì)說明

    四川某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室研究靶電流, 偏壓、沉積時(shí)間等各試驗(yàn)工藝參數(shù)對兩組試樣 AlTiN 涂層力學(xué)性能的影響旨在找出能夠鍍制優(yōu)良性能涂層的最佳工藝方案的項(xiàng)目中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源.

     

    伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):

    型號

    RFICP140

    Discharge

    RFICP 射頻

    離子束流

    >600 mA

    離子動能

    100-1200 V

    柵極直徑

    14 cm Φ

    離子束

    聚焦平行散射

    流量

    5-30 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    24.6 cm

    直徑

    24.6 cm

    中和器

    LFN 2000

     

    AlTiN 涂層具有高抗氧化性良好熱硬性摩擦系數(shù)低與基體之間結(jié)合力強(qiáng)耐磨性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)因此AlTiN涂層在機(jī)械加工行業(yè),尤其是在刀具領(lǐng)域,一直是研究的熱點(diǎn).

     

    KRI 離子源的獨(dú)特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實(shí)現(xiàn)的.

     

    KRI 離子源是領(lǐng)域公認(rèn)的領(lǐng)導(dǎo)者已獲得許多專利. KRI 離子源已應(yīng)用于許多已成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的過程中.

     

    伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計(jì)美國 KRI 考夫曼離子源美國HVA 真空閥門美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī)美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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