隨著市場需求, 無論在于太陽眼鏡光學(xué)鍍膜 (AR coating), 智能型手機(jī)照相鏡頭 (Lens coating) 鍍膜質(zhì)量及效率都必須提高.
為了提高鍍膜質(zhì)量和生產(chǎn)效率, 鍍膜制造商一般會(huì)選擇離子源進(jìn)行輔助鍍膜, 有利于:
1. 填充密度提高: 折射率提高
2. 波長漂移減少
3. 紅外波段的水氣吸收減少
4. 增強(qiáng)了膜層的結(jié)合力、耐摩擦能力, 機(jī)械強(qiáng)度, 提高表面光潔度
5. 控制膜層的應(yīng)力
6. 減少膜層的吸收和散射
7. 提高生產(chǎn)效率
伯東公司代理的美國考夫曼公司 KRI 霍爾離子源EH5000F 已成功應(yīng)用于光學(xué)鍍膜中必須的輔助鍍膜應(yīng)用, 使得大尺寸光學(xué)鍍膜機(jī)生產(chǎn)過程獲得高生產(chǎn)良率.
KRI 霍爾離子源 EH5000F優(yōu)點(diǎn):
1. 高離子濃度 (High density), 低能量 (Low energy)
2. 離子束涵蓋面積廣 (high ion beam sharp)
3. 鍍膜均勻性佳
4. 提高鍍膜品質(zhì)
5. 模塊化設(shè)計(jì),保養(yǎng)快速方便
6. 增加光學(xué)膜后折射率 (Optical index)
7. 全自動(dòng)控制設(shè)計(jì),超做簡易
8. 低耗材成本
9. 安裝簡易
伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (KRi) 美國考夫曼公司大中華總代理.
離子源發(fā)明人 Dr. Kaufman 考夫曼博士于1978年考夫曼博士在美國自行創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc. (KRi) 公司并歷經(jīng)30年離子源之改良及研發(fā)并取得多項(xiàng)專利, 目前已在光學(xué)鍍膜 (Optical coating), IBAD (離子源助鍍), IBSD (離子濺鍍), IBE (離子刻蝕), DD (離子鍍膜) 等等應(yīng)用領(lǐng)域大量使用.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.
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