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產(chǎn)品簡介
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源用于純鈦表面氨基化改性的研究
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源用于純鈦表面氨基化改性的研究
產(chǎn)品價(jià)格:¥11
上架日期:2020-11-11 13:03:59
產(chǎn)地:美國
發(fā)貨地:上海
供應(yīng)數(shù)量:不限
最少起訂:1臺(tái)
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詳細(xì)說明

    某機(jī)構(gòu)為了研究離子源處理純鈦材料表面的時(shí)間長短對(duì)純鈦材料表面生物活性及親水性的影響采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP 380 用于純鈦表面氨基化改性的研究.

     

    試驗(yàn)樣品: 8mm X 8mm的厚度 1 mmde  TA2型純鈦線

     

    試驗(yàn)流量簡介: 通過對(duì)試驗(yàn)樣品進(jìn)行刻蝕時(shí)間長短不同形成不同的清潔表面然后通過儀器分析其親水性

     

    用于刻蝕的 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù):

    射頻離子源型號(hào)

    RFICP 380

    Discharge 陽極

    射頻 RFICP

    離子束流

    >1500 mA

    離子動(dòng)能

    100-1200 V

    柵極直徑

    30 cm Φ

    離子束

    聚焦

    流量

    15-50 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    長度

    39 cm

    直徑

    59 cm

    中和器

    LFN 2000

    推薦理由:

    使用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP 380 可以準(zhǔn)確、靈活地對(duì)樣品選定的區(qū)域進(jìn)行刻蝕

     

    試驗(yàn)結(jié)論:

    N2 NH的混合氣體射頻離子源處理純鈦表面可以在表面引入氨基但處理時(shí)間并不是越長越好改性后的鈦片表面的親水性得到較大的提高但隨放置時(shí)間的增加其表面親水性會(huì)變差5h內(nèi)改性鈦片保存在氮?dú)鈿夥罩杏欣诒3制溆H水性.

     

    伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計(jì), 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

     

    http://www.hakuto-china.cn/uploadforck/images/image-20200724135740-1.jpeg

     

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