為了研究 Ag 元素對 TiSiN 薄膜結(jié)構(gòu)及性能的影響, 江蘇某大學(xué)課題組采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380 輔助磁控濺射法制備了不同 Ag 含量的 TiSiN-Ag 薄膜, 并采用EDS, XRD, XPS, TEM, CSM 納米壓痕儀, UMT-2 摩擦磨損儀和 BRUKER 三維形貌儀對薄膜的成分/ 微結(jié)構(gòu)/ 力學(xué)性能和摩擦磨損性能進(jìn)行了研究
KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):
|
射頻離子源型號 |
RFICP380 |
|
Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
|
離子束流 |
>1500 mA |
|
離子動能 |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
30 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
15-50 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
|
長度 |
39 cm |
|
直徑 |
59 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
.jpg)
Ti N 薄膜是金屬氮化物的代表性材料,具有硬度高/ 耐摩擦/ 化學(xué)穩(wěn)定性強等優(yōu)點, 作為工模具耐磨涂層已得到了廣泛的應(yīng)用, 但其硬度和抗氧化性能有待進(jìn)一步加強. 向 Ti N 中添加 Si 元素, 形成的 Ti-Si N 薄膜硬度是 Ti N 薄膜的 2 倍, 當(dāng) Si 含量為 21.28% 時 Ti Si N 薄膜的氧化溫度為800℃, 高于 Ti N 薄膜的 300℃, 但其摩擦系數(shù)在 0.65 左右, 摩擦性能需要進(jìn)一步提高. Ag和Au等貴金屬在室溫和中溫范圍內(nèi)具有良好的潤滑性, Ag 摻入耐磨涂層中可以改善其摩擦磨損性能.
KRI 離子源的獨特功能實現(xiàn)了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實現(xiàn)的.
若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權(quán)所有, 翻拷必究!
