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與液體潤(rùn)滑劑相比, 固體潤(rùn)滑劑壽命長(zhǎng), 并且可在特殊場(chǎng)合和無油、真空等環(huán)境使用, 得到越來越多的應(yīng)用.

常用的固體潤(rùn)滑劑MoS₂涂層蒸氣氣壓低、遷移性弱, 作為固體潤(rùn)滑劑的航空航天領(lǐng)域. 真空環(huán)境中得到廣泛的應(yīng)用, 在2000℃真空環(huán)境中依然具有很低的摩擦因數(shù).

隨著科技發(fā)展, 離子源技術(shù)引入物理氣相沉積技術(shù), 用于工模具涂層材料制備, 一直是 PVD 涂層技術(shù)的研究熱點(diǎn).

離子源在涂層制備過程中首先可以清洗襯底獲得清潔的表面, 其次高的離子/原子比率有利于獲得高性能的涂層.

某大型研究結(jié)構(gòu)采用 KRI 射頻離子源用于研究離子源輔助制備MoS₂ 自潤(rùn)滑涂層. 其系統(tǒng)示意圖如下:

其中 KRI 射頻離子源安裝在右側(cè)，左側(cè)為鉬靶, 真空泵安裝在真空腔體里側(cè).

客戶采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380, 同時(shí)為了獲得穩(wěn)定的合適的真空環(huán)境, 伯東工程師為制造商搭配大抽速分子泵組 Hicube 700 Pro, 采用金屬密封, 極限真空度可達(dá)1x10-7hpa, 抽速可達(dá) 685 L/s.

美國(guó) KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:

1. 大面積射頻離子源

2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求

3. 采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時(shí)間更長(zhǎng), 更適合時(shí)間長(zhǎng)的工藝要求

4. 離子束流: >1500 mA

5. 離子動(dòng)能: 100-1200 V

6. 中和器: LFN 2000

7. 采用自動(dòng)控制器, 一鍵自動(dòng)匹配

8. RF Generator 可根據(jù)工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW

9. 離子源采用模塊化設(shè)計(jì), 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝

10. 柵極材質(zhì)鉬和石墨, 堅(jiān)固耐用

11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others

運(yùn)行結(jié)果：

KRI 射頻離子源 RFIC 380成功用于輔助制備MoS₂自潤(rùn)滑涂層, 對(duì)MoS₂涂層有減膜作用,大大提高了MoS₂涂層潤(rùn)滑.

上海伯東是美國(guó)考夫曼公司 KRI 離子源的國(guó)內(nèi)總代理商, 其中KRI 離子源主要型號(hào)有:

KRI 射頻離子源 RFICP 系列： RFICP 380、RFICP 220、RFICP 140 、RFICP 100、 RFICP 40

KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列： KDC 160、KDC 100、KDC 75、KDC 40、KDC 10

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 系列:eH 3000、eH 2000、eH 1000、eH 400、eH Linear

若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東: 羅先生                               臺(tái)灣伯東: 王女士
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