離子刻蝕是利用眾所周知的陰極濺射效應(yīng)對(duì)表面進(jìn)行選擇性的剝離加工. 由于轟擊粒子小和離子刻蝕過程的計(jì)量極為精確, 因此, 用這種方法加工表面, 使表面溶解深度在單原子層范圍內(nèi). 離子刻蝕可用來清洗, 拋光或進(jìn)行薄刻蝕. 簡單的說利用離子轟擊作用, 對(duì)材料表面進(jìn)行刻蝕的過程.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 系列已廣泛被應(yīng)用于離子刻蝕 (IBE) 工藝.
伯東 KRI 離子源考夫曼離子源具有高離子濃度 (High beam currents) 及低離子能量 (Low beam energies). 此兩個(gè)特殊條件對(duì)于刻蝕效率及刻蝕中避免傷害到工件表面材質(zhì)可以達(dá)到優(yōu)化. 并且可以依客戶之工件尺寸選擇所對(duì)應(yīng)之型號(hào): 射頻離子源 RFICP 380, 射頻離子源 RFICP 220, 射頻離子源 RFICP 140, 射頻離子源 RFICP 100, 射頻離子源 RFICP 40
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