鍍膜是當(dāng)光線進(jìn)入不同傳遞物質(zhì)時(shí)(如由空氣進(jìn)入玻璃)，大約有5％會(huì)被反射掉，在光學(xué)瞄準(zhǔn)鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個(gè)加起來(lái)可以讓入射光線損失達(dá)30％至40％?，F(xiàn)代光學(xué)透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5％，多層增透膜則可讓反射降低至0.25％，所以整個(gè)瞄準(zhǔn)鏡如果加以適當(dāng)鍍膜，光線透穿率可達(dá)95％。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍(lán)紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。
但是，目前市面上在對(duì)手機(jī)殼鍍膜處理前對(duì)手機(jī)殼進(jìn)行預(yù)處理的方式并不完善，導(dǎo)致手機(jī)殼在鍍膜后容易出現(xiàn)鍍膜不均勻的情況，鍍膜較薄處容易在手機(jī)殼的使用途中產(chǎn)生劃痕，而且碰撞時(shí)，鍍膜較薄處更容易變形。
因此，湖南某知名手機(jī)鍍膜制造商希望通過(guò)采用離子源輔助鍍膜機(jī)來(lái)改善手機(jī)殼鍍膜的質(zhì)量，提高生產(chǎn)率。經(jīng)過(guò)我司推薦采用大尺寸KRI 考夫曼離子源 EH 5500 安裝于生產(chǎn)設(shè)備 2050 mm 蒸鍍機(jī)中, 實(shí)現(xiàn) LED-DBR 離子輔助鍍膜，大大提高了鍍膜質(zhì)量和提高生產(chǎn)率。
KRI 考夫曼離子源客戶案例: 國(guó)內(nèi)某知名手機(jī)鍍膜制造商
1. 離子源應(yīng)用: 手機(jī)殼顏色鍍膜.
2. 系統(tǒng)功能: 2050 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機(jī).
3. 離子源: 采用美國(guó)KRI 考夫曼離子源 KRi EH 5500. 離子源 EH 5500 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業(yè)界最高等級(jí), 離子源 EH 5500 大尺寸的離子槍本體設(shè)計(jì)所產(chǎn)生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分布可以涵蓋 2050 mm 尺寸的蒸鍍機(jī)中大范圍的載具 (substrate holder), 無(wú)論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達(dá)到最高生產(chǎn)效能.
4. 離子源功能: 通過(guò) KRI EH 5500 霍爾源實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的手機(jī)殼顏色鍍膜及 3D 玻璃鍍膜無(wú)論是環(huán)境脫膜測(cè)試, 耐刮測(cè)試, 膜層應(yīng)力測(cè)試等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機(jī)所搭配的離子源.
上海伯東美國(guó) KRI 霍爾離子源 EH 5500 優(yōu)點(diǎn):
1.離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
2.氣體分子離子轉(zhuǎn)化率高, 離子束工作穩(wěn)定
3.鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質(zhì)
4.模塊化設(shè)計(jì), 保養(yǎng)快速方便
5.增加薄膜附著性, 增加光學(xué)膜后折射率
6.全自動(dòng)控制設(shè)計(jì), 操作簡(jiǎn)易
7.低耗材成本, 安裝簡(jiǎn)易
EH 5500 離子源本體
EH 5500 離子源控制器
上海伯東是美國(guó)KRI 考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc 中國(guó)總代理. 美國(guó)KRI 考夫曼公司離子源已廣泛應(yīng)用于離子濺射鍍膜 IBSD. KRI 考夫曼離子源可控制離子的強(qiáng)度及濃度, 使濺射時(shí)靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質(zhì)量之薄膜. KRI 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式KRI 考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式KRI 考夫曼離子源.
