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KSP8-65S電動(dòng)潤(rùn)滑泵

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上架日期：2019-11-28 10:16:35

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詳細(xì)說明

KSP8-65S電動(dòng)潤(rùn)滑泵
24EJF-P型（原SA-V 型）二位四通換向閥是一種采用直流電機(jī)驅(qū)動(dòng)閥芯移動(dòng)，以開閉供油管道或轉(zhuǎn)換供油方向的一種集成化的換向控制裝置；即使在惡劣的工作條件下（如低溫或高粘度油脂），動(dòng)作仍相當(dāng)可靠。
該閥適用于公稱壓力為40MPa以下的干、稀油集中潤(rùn)滑系統(tǒng)以及液壓系統(tǒng)的主支管路中，同時(shí)也可作二位四通，二位三通和二位二通三種型式使用。24EJF-P型二位四通換向閥
DR4-5型液壓自動(dòng)換向閥
用于電動(dòng)終端式集中潤(rùn)滑系統(tǒng)，把潤(rùn)滑泵輸出潤(rùn)滑劑交替送向兩條供油主管，該閥自帶調(diào)壓功能并且能自動(dòng)換向，換向設(shè)定壓力可以在0～20MPa進(jìn)行調(diào)整，并且調(diào)整方便，該結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，換向可靠。
KSP8-65S電動(dòng)潤(rùn)滑泵

如要檢測(cè)液動(dòng)閥的換向狀況，可以在閥上安裝換向發(fā)信器，當(dāng)高壓油出口從“出油口1”轉(zhuǎn)向”出油口2“時(shí)，閥中活塞移動(dòng)，使發(fā)信器中觸點(diǎn)閉合，當(dāng)活塞反向移動(dòng)時(shí)，觸點(diǎn)斷開，用戶可根據(jù)需要將發(fā)信器與控制器或監(jiān)視裝置連接。此外現(xiàn)場(chǎng)操作人員帶可以通過發(fā)信器上的透明管直接觀察到指示桿的運(yùn)動(dòng)情況。34DF-L2用于電動(dòng)終端式集中潤(rùn)滑系統(tǒng)，由電控柜接受PV-2E型壓力操縱閥發(fā)出的信號(hào)，控制本閥實(shí)現(xiàn)兩條供油主管的交替供油和開放。
采用圓柱體的滑閥結(jié)構(gòu)，使閥口開閉嚴(yán)密，長(zhǎng)時(shí)間保持高壓不泄漏。采用強(qiáng)力電磁鐵和彈簧緩沖，使得換向可靠。
KSP8-65S電動(dòng)潤(rùn)滑泵

技術(shù)參數(shù)

型號(hào)		公稱壓力Mpa	最大流量L/min	通路數(shù)	回油口允許壓力	允許切換換頻率	環(huán)境溫度	彈簧形式	重量kg
標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)	原型號(hào)
34DF-L2	SV-32	20	3	4	10	30	0-50℃	補(bǔ)償式	17
23DFF-L1	SV-31			3					10

三、使用說明
使用潤(rùn)滑脂的錐入度為310～385（NLGI0#～1#）
貯油器內(nèi)的壓力（回油口壓力）在3MPa以下時(shí)可直接使用。在3～10MPa時(shí)需采用外部泄油方式。

KSP8-65S電動(dòng)潤(rùn)滑泵

YZF-L4型壓力操縱閥，是一種利用壓差信號(hào)通過機(jī)械傳動(dòng)轉(zhuǎn)化為電信號(hào)的發(fā)訊裝置。用于電動(dòng)終端式干油集中潤(rùn)滑系統(tǒng)中，安裝于兩條供油主管的末端，當(dāng)主管供油時(shí)的末端壓力超過該閥的設(shè)定壓力時(shí)，該閥動(dòng)作向電控柜發(fā)出信號(hào)，由電磁換向閥實(shí)現(xiàn)兩條供油主管的交替供油，該閥發(fā)送信號(hào)正確，可靠，設(shè)定壓力可以調(diào)整。

YZF-J4型壓力操縱閥是一種利用壓差信號(hào)直接轉(zhuǎn)化為電信號(hào)的發(fā)訊裝置，專門用來控制換向閥的換向，安裝在公稱壓力為10MPa電動(dòng)終端式雙線干油集中潤(rùn)滑系統(tǒng)兩條供油主管道的末端。

二、技術(shù)參數(shù)

型號(hào)	公稱壓力Mpa	調(diào)定壓力Mpa	壓力調(diào)整范圍Mpa	公稱通徑DN	行程開關(guān)				重量kg
					型號(hào)	電流A	電壓V	行程
YZF-J4	10	4	3.5-4.5	10	LX3-11H	6	AC500	9±1	2.7

使用介質(zhì)為錐入度265～385（25℃，150g）1/10mm的潤(rùn)滑脂（NLGI0#-2#）的潤(rùn)滑脂。
KSP8-65S電動(dòng)潤(rùn)滑泵

很多潛在的工藝問題均與布局有關(guān)?；瘜W(xué)機(jī)械平面化（ChemicalMechanicalPlanarization，CMP）中的凹陷和浸蝕、金屬版印刷的光學(xué)近似效應(yīng)（OpticalProximityEffects）、蝕刻負(fù)載（EtchLoading）以及許多其他的工藝特性都隨著特征密度（FeatureDensity）而改變。過程工藝（ViaProcess）取決于主要層的特性，以及其本身的布局堆棧式（stacked）或非堆棧式（unstacked）。