1.概述
1.1設備概況:
主要功能:本設備主要手動搬運方式,通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的效果。
1.1.1 設備名稱:SPM腐蝕機
1.1.2 設備型號:CSE-SC-NZD253
1.1.3 整機尺寸(參考):自動設備約3000mm(L)×1800mm(W)×2400mm(H);
1.1.4 被清洗硅片尺寸:2---6寸(25片/籃)
1.1.5 設備形式:室內放置型;
1.1.6 操作形式:自動
1.2 設備組成
該設備主要由清洗部分、抽風系統(tǒng)及電控部分組成
設備走向:方案圖按 “左進右出”方式,另可按要求設計“右進左出”方式;
1.3設備描述
l 此裝置是一個全自動的處理設備。
l10.4英寸大型觸摸屏(PROFACE/OMRON)顯示 / 檢測 / 操作
l 每個槽前上方對應操作按鈕,與觸摸屏互相配合
l 主體材料:進口優(yōu)質瓷白PP板;
l DIW管路及構件采用日本進口clean-PVC管材,需滿足18MW去離子水水質要求,酸堿管路材質為進口PFA/PVDF;
l 采用國際標準生產(chǎn)加工,焊接組裝均在萬級凈化間內完成
l 排風:位于機臺后上部
l 工作照明:上方防酸照明
l 三菱、歐姆龍 PLC控制。
l 安全考慮:
1. 設有EMO(急停裝置),
2. 強電弱點隔離
3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面
4. 電控箱正壓裝置(CDA Purge)
5. 設備三層防漏 樓盤傾斜 漏液報警 設備整體置于防漏托盤內
6. 排放管路加過濾裝置
l 所有槽體折彎成型,可有效避免死角顆粒;
二、設備結構及主要工藝概況
槽體 |
工位1 |
工位2 |
工位3 |
工位4 |
介質 |
硫酸雙氧水 |
硫酸 雙氧水 |
DIW |
DIW |
功能 |
加熱 溢流 循環(huán) |
加熱 溢流 循環(huán) |
浸泡 溢流 加熱 |
噴 淋 快 排 注 水 溢 流 |
溫度 |
120℃±3℃ |
120℃±3℃ |
80℃±5℃ |
ROOM |
材料 |
石英 |
石英 |
石英 |
NPP |