SEF-G5：激光刻膜機(jī)
激光刻膜機(jī)的產(chǎn)品特點(diǎn):半導(dǎo)體端面泵浦光纖耦合全固態(tài)激光器；膜面朝上非接觸式工作臺(tái)；直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)；四路同步輸出；自動(dòng)識(shí)別跟蹤定位；自動(dòng)進(jìn)出料；在線監(jiān)測(cè)；靜態(tài)顯示
激光刻膜機(jī)的技術(shù)參數(shù):
型號(hào)規(guī)格：SEF-G5
有效加工幅面：1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ）
最大運(yùn)行速度：2000mm/s
重復(fù)定位精度：±10μm
刻線直線度：±10μm / 1000 mm
典型刻膜線寬：30～60μm
三線外沿總寬度：300～500μm
激光刻膜機(jī)的選項(xiàng)和配件：
高標(biāo)配，可根據(jù)需要移除不需要的部件。
激光刻膜機(jī)的應(yīng)用和市場(chǎng)：非晶硅薄膜太陽(yáng)電池的透明導(dǎo)電膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背電極膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻線、切割），其它薄膜電池的膜層刻膜（金屬鉬Mo薄膜、金屬鎳Ni薄膜、碲化鎘CdTe薄膜）。
