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產品簡介
程控擴散爐-廠家直銷-支持定制-全國供應
程控擴散爐-廠家直銷-支持定制-全國供應
產品價格：￥
上架日期：2024-09-13 09:30:44
產地：山東青島
發(fā)貨地：山東青島
供應數量：不限
最少起訂：1臺
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詳細說明
    擴散爐主要滿足半導體電力電子器件、大功率集成電路等行業(yè)，對所加工的硅
    片進行擴散、氧化、退火、合金等工藝。主要由擴散爐加熱爐體、氣源系統(tǒng)、 控制系統(tǒng)、超凈化操作系統(tǒng)等組成。選用工控機微控方式或者程控方式操作。

    擴散爐技術指標：
    可處理硅片尺寸：2—12英寸
    外型形式：臥式1—4管結構
    工作溫度：200℃—1300℃
    恒溫區(qū)長度及精度：200mm—1100mm≤±0.5℃
    單點溫度穩(wěn)定性、重復性：≤±1℃／24h
    溫度斜變：可控升溫速率15℃／min
    可控降溫速率：5℃／min
    送片裝置：手動推拉
    氣路系統(tǒng)：1—5路工藝氣體／管
    氣體控制：手動浮子流量計
    控制方式：程控

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