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[發(fā)明授權(quán)] 外延層的制作方法
本發(fā)明公開一種外延層的制作方法，包含提供一硅基底，一介電層覆蓋硅基底，接著形成一凹槽于硅基底和介電層內(nèi)，之后進行一選擇性外延成長步驟以及一非選擇性外延成長步驟，分別形成一第一外延層和第二外延層于凹槽內(nèi)，第一外延層不覆蓋介電層的上表面，其中凹槽由第一外延層和第二外延層共同填滿，最后平坦化第一外延層和第二外延層。
