詳細參數(shù) | |||
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品牌 | ASML | 型號 | 402243644591阿斯麥 |
結構形式 | 模塊式 | 安裝方式 | 現(xiàn)場安裝 |
LD指令處理器 | 硬PLC | 加工定制 | 否 |
ASML 4022 436 44591阿斯麥
ASML 4022 436 44591阿斯麥
ASML 4022 436 44591阿斯麥:光刻技術的巔峰之作在現(xiàn)代半導體制造領域,光刻技術是芯片制造的核心環(huán)節(jié)。ASML作為全球領先的光刻設備供應商,其產(chǎn)品一直備受矚目。ASML 4022 436 44591作為ASML公司的一款重要設備,以下是其詳細參數(shù)介紹?;拘畔⑿吞枺篈SML 4022 436 44591類型:浸沒式光刻機用途:用于先進集成電路制造,能夠實現(xiàn)高分辨率圖案轉移技術規(guī)格光源:類型:極紫外光(EUV)波長:13.5納米(nm)分辨率:最小線寬:7納米(nm)套刻精度:小于2納米(nm)曝光方式:掃描方式:步進掃描曝光場尺寸:26毫米(mm)×33毫米(mm)生產(chǎn)效率:每小時晶圓處理量:大于200片綜合產(chǎn)出率:超過每小時250片晶圓對準系統(tǒng):對準精度:優(yōu)于0.5納米(nm)多重曝光能力:支持掩模版尺寸:6英寸(152毫米(mm))×6英寸(152毫米(mm))物理特性尺寸:長×寬×高約為10米×5米×4米重量:約180噸工作環(huán)境:溫度:20±0.1攝氏度濕度:40%±5%相對濕度潔凈度:ISO 1級潔凈室電氣與控制系統(tǒng)電源要求:三相380伏特(V),50赫茲(Hz)功率消耗:約1兆瓦(MW)控制系統(tǒng):操作系統(tǒng):基于Linux的定制系統(tǒng)用戶界面:圖形化用戶界面,支持遠程控制其他特性自動化程度:高度自動化,支持智能維護與診斷兼容性:兼容多種晶圓材料和工藝要求升級能力:支持硬件和軟件升級,以適應未來技術發(fā)展需求應用領域ASML 4022 436 44591廣泛應用于邏輯芯片、存儲芯片及高性能計算芯片的制造。其高分辨率和高生產(chǎn)效率使其成為先進半導體制造不可或缺的設備。客戶支持ASML提供全方位的客戶支持,包括設備安裝、調試、培訓及售后服務。專業(yè)的技術支持團隊確保設備能夠持續(xù)穩(wěn)定運行,為客戶創(chuàng)造最大價值。結語ASML 4022 436 44591以其卓越的技術參數(shù)和可靠性,成為全球半導體制造商的設備。其不斷的技術創(chuàng)新和升級能力,確保了設備能夠持續(xù)滿足未來芯片制造的需求,為推動半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展發(fā)揮著重要作用。