場(chǎng)源通常是對(duì)齊的,以便場(chǎng)線束穿透 IC 外殼的區(qū)域,從而使模具沿正交方向。這樣可以確保在口模的回路中獲得最*高的感應(yīng)效果(大約30V/mm2)。然而,在實(shí)踐中,干涉場(chǎng)通常與模具表面平行,因此不會(huì)穿透模具(見 EFT/脈沖場(chǎng)源探頭設(shè)置用戶手冊(cè))。
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