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產(chǎn)品簡介
半導體廠排放污染有機廢氣異味凈化工藝
產(chǎn)品價格:¥4999.00元/臺
上架日期:2018-09-10
發(fā)貨地:河北 滄州市
供應數(shù)量:不限
最少起訂:1臺
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詳細說明
    詳細參數(shù)
    品牌其他型號HN-300
    加工定制產(chǎn)地滄州
    外形尺寸900mm*1170mm*960mm

    半導體廠排放污染有機廢氣異味凈化工藝18131773820 王經(jīng)理

           半導體廢氣處理設備廠家光化學及光催化氧化法是目前研究較多的一項高級氧化技術(shù)。所謂光催化反應,就是在光的作用下進行的化學反應。

           光化學反應需要分子吸收特定波長的電磁輻射,受激產(chǎn)生分子激發(fā)態(tài),然后會發(fā)生化學反應生成新的物質(zhì),或者變成引發(fā)熱反應的中間化學產(chǎn)物。如何凈化半導體廠車間廢氣方法 半導體廠車間異味治理方法 工業(yè)車間除塵裝置 方案設計機設備 

    http://www.glchuchen.com

        光化學反應的活化能來源于光子的能量,在太陽能的利用中光電轉(zhuǎn)化以及光化學轉(zhuǎn)化一直是十分活躍的研究領域。光催化氧化技術(shù)利用光激發(fā)氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結(jié)合。所用光主要為紫外光,包括uv-H2O2、uv-O2等工藝,可以用于處理污水中CCl4等難降解物質(zhì)。另外,在有紫外光的Fenton體系中,紫外光與鐵離子之間存在著協(xié)同效應,使H2O2分解產(chǎn)生羥基#基的速率大大加快,促進有機物的氧化去除。半導體廠排放污染有機廢氣異味凈化工藝



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