| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號(hào) | SHD-14-50-2SH |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 強(qiáng)沖擊載荷 |
| 傳動(dòng)比級(jí)數(shù) | 單級(jí) | 軸的相對(duì)位置 | 立式加速器 |
| 傳動(dòng)布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 硬齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 減速機(jī) |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 3000rpm | 額定功率 | 111kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 47.6rpm | 許用扭矩 | 22N.m |
| 使用范圍 | 軍工 | 減速比 | 76 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
氧化(Oxidation)工藝的主要目的是在硅襯底表面形成SiO2氧化膜。日本HD熱氧化加工諧波SHD-14-50-2SH SiO2在微電子和微系統(tǒng)中的主要應(yīng)用包括：鈍化晶體表面，形成化學(xué)和電的穩(wěn)定表面，日本HD熱氧化加工諧波SHD-14-50-2SH即器件表面保護(hù)或鈍化膜；作為后續(xù)工藝步驟（擴(kuò)散或離子注入）的掩模（摻雜掩模、刻蝕掩模）；形成介質(zhì)膜用于器件間的隔離或作器件結(jié)構(gòu)中的絕緣層（非導(dǎo)電膜）；在襯底或其他材料間形成界面層（或犧牲層）。
熱氧化是指在高溫爐中反應(yīng)，形成較厚的SiO2氧化層的過(guò)程，日本HD熱氧化加工諧波SHD-14-50-2SH也稱為熱生長(zhǎng)法。根據(jù)不同的作用，氧化層的厚度從60?-10000 ?。氧化溫度一般在900℃-1200℃。
