| 詳細參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | SHD-14-50-2SH |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態(tài) | 強沖擊載荷 |
| 傳動比級數(shù) | 三級 | 軸的相對位置 | 臥式減速器 |
| 傳動布置形式 | 擺線式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現(xiàn)貨 | 現(xiàn)貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 三環(huán)式 | 用途 | 變速機 |
| 輸入轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | 額定功率 | 360kw |
| 輸出轉(zhuǎn)速范圍 | 50rpm | 許用扭矩 | 1782N.m |
| 使用范圍 | 軍工 | 減速比 | 45 |
| 產(chǎn)地 | 日本 | ||
光刻的目的是將電路圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋于硅片表面的光刻膠上日本HD離子傳輸諧波SHD-14-50-2SH。光刻膠是一種光敏的化學(xué)物質(zhì)，它通過深紫外線（或極紫外線）曝光來印制掩模板的圖像。涂膠和顯影設(shè)備是用來完成光刻的一系列工具的組合。光刻過程包括預(yù)處理、涂膠、甩膠、烘干，然后用機械臂將涂膠的硅片送入光刻機。以步進式光刻機為例，日本HD離子傳輸諧波SHD-14-50-2SH在進行硅片和掩模板的對準、聚焦后，步進式光刻機先曝光硅片上的一小片面積，隨后步進到硅片的下一區(qū)域并重復(fù)這一過程。
（3）刻蝕 刻蝕是在沒有光刻膠保護的地方留下永久的圖形。日本HD離子傳輸諧波SHD-14-50-2SH刻蝕工藝一般使用等離子體刻蝕機、等離子體去膠機和濕法清洗設(shè)備?，F(xiàn)在主要使用干法等離子體刻蝕工藝。
