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產(chǎn)品簡介
微型PECVD系統(tǒng)BTF-1200C-S-PECVD
產(chǎn)品價格:¥1.00元/臺
上架日期:2019-12-25
發(fā)貨地:安徽 合肥市
供應(yīng)數(shù)量:不限
最少起訂:1臺
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詳細說明
    詳細參數(shù)
    品牌貝意克型號其他

    主要特點

     
        1. 薄膜沉積速率高:采用了甚高頻技術(shù),大大的提高了薄膜的沉積速率,沉積速率可達10?/S;
        2. 大面積均勻性高:采用了先進的多點射頻饋入技術(shù),特殊氣路分布和加熱技術(shù)等,使得薄膜均勻性指標(biāo)達到8%;
        3. 一致性高:用半導(dǎo)體行業(yè)的先進設(shè)計理念,使得一次沉積的各基片之間偏差低于2%;
        4. 工藝穩(wěn)定性高:高度穩(wěn)定的設(shè)備保證了工藝的連續(xù)和穩(wěn)定;
        5. 選配物料噴射系統(tǒng),可將原料直接噴射到反應(yīng)區(qū)。
        6.專利號:ZL201320052532.0  (專利產(chǎn)品,防偽必究)。
     
    技術(shù)參數(shù)

     

     

     
     

    真空管式爐

    爐管尺寸:

    外徑Φ50×700mm

    極限溫度:

    1200℃

    溫度控制器:

    PID自動控制晶閘管(可控硅)輸出功率,30段可編程控制器

    最快升降溫速率:

    60

    加熱區(qū):

    230mm

    恒溫區(qū):

    100mm

    溫度精度:

    ±1℃

    電源:

    單相220V,交流50Hz

     

     

     

    多通道流量計控制系統(tǒng)

    標(biāo)準量程:

    100,200SCCM;(以氮氣標(biāo)定,除以上標(biāo)準外量程可選)

    準確度:

    ±1.5%

    工作壓差范圍:

    0.1~0.5 MPa

    最大壓力:

    3MPa

    接頭類型:

    Φ6雙卡套不銹鋼接頭

     

     

    高真空系統(tǒng)

                       

     

    泵體積流量N2

    33 L/S

    壓縮比:

    ≥1011mbar   

    實驗真空值:

    ≤10-6mbar

    功率消耗:

    140W

    啟動時間:

    2min

    電源要求:

    185-265V AC

    射頻電源

    信號頻率:

    13.56MHz±0.005%W

    功率輸出范圍:

    0-100W

    最大反射功率:

    10W

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