| 詳細(xì)參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | SGN,思峻 | 型號(hào) | GM2000-4 |
| 類型 | 高速分散機(jī) | 物料類型 | 固-液 |
| 適用物料 | 多種適用 | 升降形式 | 液壓升降 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)藥 | 速度類別 | 無級(jí)變速 |
| 分散盤形式 | 多種選配 | 加工定制 | 是 |
| 分散輪直徑 | 55mm | 升降行程 | 0mm |
| 調(diào)速范圍 | 0-18000r,min | 變速方式 | 變頻變速 |
| 罐容量 | 1000L | 主機(jī)功率 | 4KW |
| 外形尺寸 | 450mm*400mm*800mm | 重量 | 50kg |
| 產(chǎn)地 | 上海 | ||
一、產(chǎn)品名稱概述：
超細(xì)頭孢混懸液漿料高剪切膠體磨,醫(yī)藥獸藥用膠體磨,混懸液納米膠體磨,醫(yī)藥級(jí)超高剪切膠體磨
二、產(chǎn)品介紹:
1.超細(xì)頭孢混懸液高剪切膠體磨，頭孢混懸液超細(xì)研磨機(jī)，-納米頭孢混懸液膠體磨，頭孢混懸液超細(xì)研磨機(jī)，頭孢混懸液高剪切研磨機(jī)，混懸液膠體磨，口服混懸液膠體磨，外用混懸液膠體磨，注射混懸液膠體磨，阿苯達(dá)唑混懸液膠體磨，安達(dá)鋁鎂加混懸液膠體磨，布地奈德混懸液膠體磨，布洛芬混懸液膠體磨，蒙脫石混懸液膠體磨，多潘立酮混懸液膠體磨，磺胺二甲嘧啶混懸液膠體磨
2.混懸液藥劑是指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非勻相的液體藥劑。對(duì)于混懸液藥劑的制備有嚴(yán)格的規(guī)定：藥物本身的化學(xué)性質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定，在使用或貯存期間含量應(yīng)符合要求；混懸劑中微粒大小根據(jù)用途不同而有不同要求；粒子的沉降速度應(yīng)很慢、沉降后不應(yīng)有結(jié)塊現(xiàn)象，輕搖后應(yīng)迅速均勻分散；混懸劑應(yīng)有一定的粘度要求；外用混懸劑應(yīng)容易涂布等。
三、混懸劑穩(wěn)定性影響因素：
1.粒子沉降----通過stokes沉降方程可知,粒子半徑越大,介質(zhì)粘度越低,沉降速度越快.為保持穩(wěn)定,應(yīng)減小微粒半徑,或增加介質(zhì)粘度（助懸劑）。
2.荷電與水化膜-----雙電層與水化膜能保持粒子間斥力,有助于穩(wěn)定.如雙電層zeta電位降低,或水化膜破壞,則粒子發(fā)生聚沉.電解質(zhì)容易破壞zeta電位和水化膜。
3.絮凝與反絮凝----適當(dāng)降低zeta電位,粒子發(fā)生松散聚集,有利于混懸劑穩(wěn)定.能形成絮凝的物質(zhì)為絮凝劑。
4.結(jié)晶-----放置過程中微粒結(jié)晶,結(jié)晶成長(zhǎng),形成聚沉。
5.分散相溫度----- 溫度降低使布朗運(yùn)動(dòng)減弱,降低穩(wěn)定性.故應(yīng)保持合適的溫度。
6.若要制得沉降緩慢的混懸液，應(yīng)減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。加入表面活性劑可以降低界面自由能，使系統(tǒng)更加穩(wěn)定，而且表面活性劑由可以作為潤(rùn)濕劑，可有效的解決疏水性藥物在水中的聚集。顆粒的絮凝與其表面帶電情況有關(guān)，若加入適量的絮凝劑（電解質(zhì)）使顆粒ζ電位降至一定程度，微粒就發(fā)生絮凝，混懸劑相對(duì)穩(wěn)定，絮凝沉淀物體積大，振搖后易再分散。加入反絮凝劑（電解質(zhì)）可以增加已存在固體表面的電荷，使這些帶電的顆粒相互排斥而不致絮凝。
四、上海思峻膠體磨介紹：
1.膠體磨GM2000三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果膠體磨GM2000系列研磨分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
2.膠體磨GM2000結(jié)構(gòu)機(jī)理：由電動(dòng)機(jī)、連接體、磨頭等組成，磨盤采用優(yōu)質(zhì)不銹鋼鍛壓制成，磨盤表面有三個(gè)以上溝槽，分為三級(jí)。每一級(jí)的溝槽刀齒數(shù)量、方向及寬度不同，越是向外延伸一級(jí)，磨片精度越高、齒距越小、線速度越長(zhǎng)、物料越磨越細(xì)、刀齒的數(shù)量越多、剪切面越大、線速度越長(zhǎng)、流體速度越快、細(xì)化效果越好。機(jī)械密封分：硬質(zhì)內(nèi)裝機(jī)械密封、外裝雙面硬質(zhì)機(jī)械密封、金屬波紋硬質(zhì)機(jī)械密封等三種密封可選。磨盤刀齒根據(jù)需要可以進(jìn)行特殊氮化處理，增強(qiáng)刀齒的硬度，起到更耐磨、耐腐蝕的作用。轉(zhuǎn)磨與定磨可根據(jù)物料粘度、產(chǎn)量、顆粒細(xì)度進(jìn)行手工調(diào)節(jié)，其功效為剪切率大、線速度長(zhǎng)、無死角、處理量大、均質(zhì)細(xì)化效果好。
3.膠體磨GM2000系列的特點(diǎn)：
⑴定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
⑵齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
⑶溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
五、SGN膠體磨選型表：
|
型號(hào) |
流量 |
輸出轉(zhuǎn)速 |
線速度 |
馬達(dá)功率 |
出/入口鏈接 |
|
|
L/H |
rpm |
m/s |
kw |
|
|
GM2000/4 |
700 |
9000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
|
GM2000/5 |
3000 |
6000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
|
GM2000/10 |
8000 |
4200 |
23 |
1.5 |
DN50/DN50 |
|
GM2000/20 |
20000 |
2850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
|
GM2000/30 |
40000 |
1420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
|
GM2000/50 |
80000 |
1100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和Z終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制。
4 本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符，正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。
超細(xì)頭孢混懸液漿料高剪切膠體磨,醫(yī)藥獸藥用膠體磨,混懸液納米膠體磨,醫(yī)藥級(jí)超高剪切膠體磨
