| 詳細(xì)參數(shù) |
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濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導(dǎo)體集成電路、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。
公司是一家真空蒸鍍與磁控濺射應(yīng)用材料解決方案提供商。專業(yè)致力于技術(shù)研發(fā)生產(chǎn)和銷售高純金屬蒸鍍材料：低功函數(shù)金屬材料金屬鐿Yb、鎂、銀;磁控濺射靶材：銅靶、鉬靶、鋁靶、鎢靶；稀土高純金屬材料及半導(dǎo)體高純化合物等高性能材料；產(chǎn)品被應(yīng)用于OLED柔性顯示、TFT-LCD液晶顯示、集成半導(dǎo)體、晶圓、光學(xué)鍍膜、光纖通訊、新能源鋰電池、航空航天等光電子領(lǐng)域。 公司總建筑面積超過2萬平米，建立了材料研發(fā)中心、檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室、并引進(jìn)美國先進(jìn)真空中頻感應(yīng)熔煉爐，真空蒸餾爐、冷坩堝懸浮熔煉爐，真空燒結(jié)爐，單晶爐，等各種材料精密加工專業(yè)生產(chǎn)設(shè)備；有力保證品質(zhì)穩(wěn)定和技術(shù)優(yōu)先；易金新材多年來憑借高度的責(zé)任感，求真務(wù)實(shí)的態(tài)度，快速反應(yīng)的服務(wù)能力和完善的管理體系，贏得了全球大型OLED、TFT-LCD液晶顯示生產(chǎn)商以及眾多知名光學(xué)光電子企業(yè)的認(rèn)可，并建立良好的戰(zhàn)略合作關(guān)系。
