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美國威創(chuàng)Viatran壓力傳感器520BQS總經(jīng)銷云南

SimplifiedProcessFlowDiagramforCambiTHPTHP工藝本身仍然具有一些缺陷，THP需要高溫、高壓的環(huán)境，必然導(dǎo)致其耗能較高。目前學(xué)術(shù)界對THP工藝的研究主要集中在兩個領(lǐng)域：提高沼氣產(chǎn)量、降低THP能耗。為改進THP工藝，泰晤士水務(wù)有限公司(ThamesWaterUtilitiesLimited)、英國薩里大學(xué)(SurreyUniversity)和C：MBI公司共同研發(fā)了嵌入式熱水解工藝(IntermediateThermalHydrolysisProcess，ITHP)，并在英國貝辛斯托克污水處理廠(BasingstokeSTP)開展了中試試驗。
VIATRAN是創(chuàng)新壓力和液位變送器的制造商。我們的高精度變送器和堅固耐用的壓力變送器可在廣泛的壓力和溫度范圍內(nèi)提供可重復(fù)的測量。VIATRAN壓力變送器提供mV/V、電壓和4-20 mA輸出，以及各種電氣連接和壓力端口接頭。我們的壓力變送器產(chǎn)品系列包括標(biāo)準(zhǔn)負(fù)載壓力變送器、高精度壓力變送器、差壓變送器、浸入式壓力傳感器、過程壓力變送器、衛(wèi)生型壓力變送器、齊平式安裝壓力傳感器、重載壓力變送器和特殊壓力傳感器。

半個世紀(jì)以來，Viatran一直致力于解決一些惡劣應(yīng)用環(huán)境中的壓力、液位測量，極端溫度和快速響應(yīng)問題 ，包括高腐蝕性介質(zhì)、破壞性循環(huán)壓力、以及嚴(yán)重的沖擊和振動應(yīng)用環(huán)境。Viatran壓力傳感器和液位測量變送器專門設(shè)計用于石油和天然氣服務(wù)、鋼鐵生產(chǎn)、食品和設(shè)備、壓鑄、化工生產(chǎn)和各種汽車和測試。

Viatran一直在設(shè)計和制造壓力傳感儀器石油和天然氣工業(yè)50多年來，我們非常熟悉鉆井、二次采油、海上和陸上生產(chǎn)的苛刻性能、可靠性和適應(yīng)性要求。
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主要依據(jù)測井響應(yīng)特征、巖性組合特征、有機碳含量、氣測顯示等資料進行劃分，以富有機碳的泥頁巖作為含氣頁巖層段頂、底的界限，層段內(nèi)不含明顯的水層，連續(xù)厚度一般不超過1m(水平井+分段壓裂工藝決定。該定義是進行頁巖氣資源評價工作的前提。附氣與游離氣的含量頁巖氣的賦存形式具有多樣性，包括游離態(tài)(大量存在于巖石空隙與裂隙)、吸附態(tài)(大量吸附于有機質(zhì)顆粒、黏土礦物顆粒、干酪根顆粒以及孔隙表面之上)及溶解態(tài)(少量溶解于干酪根、瀝青質(zhì)以及液體原油中)，但以游離態(tài)和吸附態(tài)為主，溶解態(tài)僅少量存在。
EMG 伺服閥 LLS 675/02
EMG 伺服閥 SV1-10/32/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6SV1-10/16/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/16/315-6
EMG傳感器KLW 300.012
EMG 位置傳感器 KLW 150.012
EMG 傳感器 KLW 225.012
EMG 位置傳感器 KLW 360.012
EMG 位置傳感器 KLW150.012
EMG 位置傳感器 KLW225.012
EMG 位置傳感器 KLW300.012
EMG 位置傳感器 KLW450.012
EMG 位置傳感器 KLW600.012
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/32/100/6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/4/120/6
EMG 伺服閥 SV2-16/125/315/1/1/01
EMG 濾芯 HFE400/10H
EMG 位移傳感器 KLM300/012
EMG 對中整流器 LLS675/02
EMG 光 LIC1075/11
EMG 電路處理板 EVK2.12
EMG 電源 BK11.02
EMG 處理器 MCU16.1
EMG VKI3-11-200/1600/750/M/E/W/A/
EMG 對中光源 LID2-800.2C
EMG 對中光源 LID2-800.2C
EMG 電動執(zhí)行器 DMC2000-B3-160-SMC002-DCS
EMG 位移傳感器 KLW300.012
EMG 電路板 LIC2.01.1
EMG 推動桿EB1250-60IIW5T
EMG 推動桿EB800-60II
EMG 推動桿EB220-50/2IIW5T
EMG 推動桿EB300-50IIW5T
EMG 發(fā)射光源L1C770/01-24VDC/3.0A
EMG 制動器ED121/6 2LL5   551-1
EMG 光電探頭EVK2-CP/800.71L/R
EMG 放大器EVB03/235351
EMG 對中控制SMI  2.11.1/2358100134300
EMG 電路板SMI   2.11.3/235990
EMG 泵DMC   249-A-40
EMG 泵DMC   249-A-50
EMG 泵DMC 30   A-80
EMG 泵DPMC   59-V-8
EMG 位置傳感器LWH-0300
EMG 電動執(zhí)行器DMCR59-B1-10
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/6
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/8
EMG 伺服閥SV1-10/48/315/8
EMG 伺服閥SV2-10/64/210/6
EMG對中光源LID2-800.2C
EMG KLW300-012
CPC LS14.02
KLW 360.012
EPC EVM2-CP/1300.71/L/R
EPC CCDPro 5000
CPC LS13.01
EMG光電式測量傳器 EVM2-CP/1850 71/L/R
EMG高頻光源 LLS875/01
EMG數(shù)字式控制器 ICON SE+VS/AE1054
EMG適配器 EVB03.01

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Danfoss 丹佛斯 柱塞泵 APP2.2 180B3045  
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柱塞杠套件\APP21-46\180B4166
柱塞套件\APP261500&APP30-46\180B4199
機械密封\APP21-46180B4631
沖洗閥套件\APP21-46&APPWHC15-30\180B4170
斜盤套件\APP21\1200&APP26\1500180B4167
閥板套件\APP21-26180B4165
接口法蘭套件\APP21-46&APPWHC15-30\180B4633
保持球套件\APP21-26&APP301500\180B4164
密封套件\APP21-46180B4632不含機械密封
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為保證VOCs排放量、濃度達(dá)標(biāo)，不少合成革企業(yè)已投資引進環(huán)保設(shè)備，加強VOCs的治理。1干濕法車間的有組織排放廢氣在干濕法車間的濕法漿料停放區(qū)、濕法車間涂臺處可設(shè)置密閉的涂臺間，預(yù)含浸槽、含浸槽、凝固槽、水洗槽也需密封處理，貝斯進出口局部可設(shè)小包圍間，確保內(nèi)部風(fēng)速控制在.4m/s以上。干法配料、過濾等工序可設(shè)置負(fù)壓式人料分離密閉配料間、過濾間，并采用密閉且自帶輸送漿料裝置的標(biāo)準(zhǔn)化料桶。涂臺處設(shè)置移門，使工人通過移門進出。