詳細(xì)參數(shù) | |||
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品牌 | 其他 | 型號(hào) | APP11/1200180B3212柱塞泵 |
輸送介質(zhì) | 水泵 | 驅(qū)動(dòng)方式 | 電動(dòng)泵 |
介質(zhì)溫度類型 | 深冷泵 | 材質(zhì) | 不銹鋼 |
最大出口壓力類型 | 其他 | 最大出口壓力數(shù)值 | 參考型號(hào)說明 |
葉片式泵葉輪級(jí)數(shù) | 其他 | 葉片式泵吸入方式 | 其他 |
葉片式泵葉輪形式 | 其他 | 葉片式泵殼體型式 | 其他 |
葉片式泵泵軸位置 | 其他 | 結(jié)構(gòu)類型 | 軸流式 |
顏色 |
柱塞泵APP17/1500180B3251進(jìn)口
在現(xiàn)場(chǎng)安裝條件下校準(zhǔn),或在相同于現(xiàn)場(chǎng)安裝條件的擾動(dòng)阻流件與儀表一起,在實(shí)驗(yàn)室實(shí)流校驗(yàn)裝置上校準(zhǔn)。在儀表上游安裝如下節(jié)所述的流動(dòng)調(diào)整器。密封墊片偏心(未對(duì)準(zhǔn)中心)。密封襯墊安裝偏心,遮住了部分流通面積,使速度分布嚴(yán)重畸變不對(duì)稱。由于不對(duì)稱流動(dòng)發(fā)生在流量傳感器進(jìn)口,即上游直管段長度為零,會(huì)對(duì)差壓式、渦輪式、渦街式、超聲式,靶式、電磁式等儀表帶來測(cè)量誤差。DN50mm電磁流量計(jì)襯墊偏心10mm,測(cè)量誤差高達(dá)4%~10%;標(biāo)準(zhǔn)孔板的銳角未裝在迎流面;儀表與管道間密封襯墊內(nèi)徑Dg小于管道內(nèi)徑Dp和儀表內(nèi)徑Dm而產(chǎn)生束流。
德國EMG公司電動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)在性能、設(shè)計(jì)和使用方面的主要特點(diǎn)如下:
EMG 伺服閥 LLS 675/02
EMG 伺服閥 SV1-10/32/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6SV1-10/16/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315-6
EMG 伺服閥 SV1-10/16/315-6
EMG傳感器KLW 300.012
EMG 位置傳感器 KLW 150.012
EMG 傳感器 KLW 225.012
EMG 位置傳感器 KLW 360.012
EMG 位置傳感器 KLW150.012
EMG 位置傳感器 KLW225.012
EMG 位置傳感器 KLW300.012
EMG 位置傳感器 KLW450.012
EMG 位置傳感器 KLW600.012
EMG 伺服閥 SV1-10/8/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/48/315/6
EMG 伺服閥 SV1-10/32/100/6
EMG 伺服閥 SV1-10/8/120/6
EMG 伺服閥 SV1-10/4/120/6
EMG 伺服閥 SV2-16/125/315/1/1/01
EMG 濾芯 HFE400/10H
EMG 位移傳感器 KLM300/012
EMG 對(duì)中整流器 LLS675/02
EMG 光 LIC1075/11
EMG 電路處理板 EVK2.12
EMG 電源 BK11.02
EMG 處理器 MCU16.1
EMG VKI3-11-200/1600/750/M/E/W/A/
EMG 對(duì)中光源 LID2-800.2C
EMG 對(duì)中光源 LID2-800.2C
EMG 電動(dòng)執(zhí)行器 DMC2000-B3-160-SMC002-DCS
EMG 位移傳感器 KLW300.012
EMG 電路板 LIC2.01.1
EMG 推動(dòng)桿EB1250-60IIW5T
EMG 推動(dòng)桿EB800-60II
EMG 推動(dòng)桿EB220-50/2IIW5T
EMG 推動(dòng)桿EB300-50IIW5T
EMG 發(fā)射光源L1C770/01-24VDC/3.0A
EMG 制動(dòng)器ED121/6 2LL5 551-1
EMG 光電探頭EVK2-CP/800.71L/R
EMG 放大器EVB03/235351
EMG 對(duì)中控制SMI 2.11.1/2358100134300
EMG 電路板SMI 2.11.3/235990
EMG 泵DMC 249-A-40
EMG 泵DMC 249-A-50
EMG 泵DMC 30 A-80
EMG 泵DPMC 59-V-8
EMG 位置傳感器LWH-0300
EMG 電動(dòng)執(zhí)行器DMCR59-B1-10
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/6
EMG 伺服閥SV1-10/32/315/8
EMG 伺服閥SV1-10/48/315/8
EMG 伺服閥SV2-10/64/210/6
EMG對(duì)中光源LID2-800.2C
EMG KLW300-012
CPC LS14.02
KLW 360.012
EPC EVM2-CP/1300.71/L/R
EPC CCDPro 5000
CPC LS13.01
EMG光電式測(cè)量傳器 EVM2-CP/1850 71/L/R
EMG高頻光源 LLS875/01
EMG數(shù)字式控制器 ICON SE+VS/AE1054
EMG適配器 EVB03.01
柱塞泵APP17/1500180B3251進(jìn)口
據(jù)故宮博物院院長單霽翔介紹,、希臘同為擁有悠久歷史的文明古國,在收藏與研究保護(hù)領(lǐng)域多有共通之處。希臘電子結(jié)構(gòu)與激光研究所在激光光學(xué)領(lǐng)域享譽(yù)歐洲,一直致力于將激光技術(shù)應(yīng)用于文化遺產(chǎn)的研究與保護(hù)工作中。特別是他們近與雅典衛(wèi)城博物館合作的“大理石表面污染物激光清除”項(xiàng)目,獲得了修護(hù)協(xié)會(huì)頒發(fā)的凱克獎(jiǎng),已經(jīng)成為世界范圍內(nèi)石質(zhì)激光清洗的代表案例。高科技設(shè)備可分析釉燒溫度隨著時(shí)代發(fā)展,科學(xué)技術(shù)在保護(hù)過程中應(yīng)用日益廣泛,為病害的診斷、的預(yù)防性保護(hù)和修復(fù)提供了重要的支撐。
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵 APP1.5 180B3043
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵 APP3.5 180B3032
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵 APP0.6 180B3048
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵 APP2.2 180B3045
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵 APP8.2 180B3008
Danfoss 丹佛斯 柱塞泵_APPW8.2_83bar_138.5L_180B3078
柱塞杠套件\APP21-46\180B4166
柱塞套件\APP261500&APP30-46\180B4199
機(jī)械密封\APP21-46180B4631
沖洗閥套件\APP21-46&APPWHC15-30\180B4170
斜盤套件\APP21\1200&APP26\1500180B4167
閥板套件\APP21-26180B4165
接口法蘭套件\APP21-46&APPWHC15-30\180B4633
保持球套件\APP21-26&APP301500\180B4164
密封套件\APP21-46180B4632不含機(jī)械密封