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KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 制備高性能光通信帶通濾光膜
發(fā)布者:bdqysh  發(fā)布時間:2020-12-30 15:54:14

KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 制備高性能光通信帶通濾光膜


光通信的信息載體是光波為了進一步提高光通信系統(tǒng)中光信號的傳輸質(zhì)量滿足光通信系統(tǒng)的使用要求廣東中山某研究機構(gòu)采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 制備高性能光通信帶通濾光膜.

 

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

離子源型號

RFICP220

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>800 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦,  平行,  散射

流量

10-40 sccm

通氣

Ar,  Kr,  Xe,  O2,  N2,  H2,  其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000

可選燈絲中和器可變長度的增量

KRI 射頻離子源 RFICP 220

 

在該研究項目中 Ta2O5  SiO2 作為鍍膜材料設(shè)計了含有 12 個諧振腔的帶通濾光膜分析并解決了耦合層膜厚監(jiān)控的問題.

 

運行結(jié)果:

制備的帶通濾光膜在 15281571 nm 處插入損耗小于 0.2 dB, 14701521 nm  15781651 nm 處透射隔離度大于 40 dB, 滿足實際使用要求.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵,  檢漏儀,  質(zhì)譜儀,  真空計,  美國 KRI 考夫曼離子源,  美國HVA 真空閥門,  美國 inTEST 高低溫沖擊測試機,  美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

若您需要進一步的了解詳細信息或討論,  請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

上海伯東羅先生                               臺灣伯東王女士
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