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KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射制備 LaF3 薄膜
發(fā)布者:bdqysh  發(fā)布時(shí)間:2020-12-25 16:08:17

因此某光學(xué)薄膜制造商采用20cm 的濺射源為 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 輔助濺射制備 LaF3 薄膜

 

伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):

離子源型號(hào)

RFICP220

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>800 mA

離子動(dòng)能

100-1200 V

柵極直徑

20 cm Φ

離子束

聚焦平行散射

流量

10-40 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長(zhǎng)度

30 cm

直徑

41 cm

中和器

LFN 2000

可選燈絲中和器可變長(zhǎng)度的增量

KRI 射頻離子源 RFICP 220

運(yùn)行結(jié)果:

1. 采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP220 鍍制的 LaF3 薄膜折射率更高且不存在折射率的梯度分布

2. 制備的 LaF3薄膜的環(huán)境穩(wěn)定性更高

3. 離子源濺射制備的減反膜透過率為99.2%反射率為 0.1%表現(xiàn)了較好的光學(xué)特性

 

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計(jì)美國(guó) KRI 考夫曼離子源美國(guó)HVA 真空閥門美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī)美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

 

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