用途
· 金屬（鋁）、鎢和電介質(zhì)（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
· 電子回旋共振(ECR)刻蝕
· 薄膜沉積CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
· 濺射
· 離子注入源，射束線(xiàn)泵送和站
功能與優(yōu)勢(shì)
· 緊湊型設(shè)計(jì)，包括完全集成的控制器
· 創(chuàng)新性自傳感軸承系統(tǒng)
· 數(shù)字化5軸控制
· 與現(xiàn)有渦輪泵相比振動(dòng)級(jí)別降低了50%
· 可以配置為運(yùn)行腐蝕性制程