等離子體刻蝕和光刻膠剝離工藝是前端(FEOL)半導(dǎo)體制造步驟中的關(guān)鍵點(diǎn)。這些工藝會(huì)留下不需要的聚合物殘留物,這些殘留物是在這些蝕刻和剝離步驟中使用的侵蝕性化學(xué)物質(zhì)的副產(chǎn)品。
幾十年來,上海自動(dòng)化儀表有限公司用于促進(jìn)去除這些殘余物的技術(shù)之一是在等離子體化學(xué)中引入超純的去離子水蒸氣。幾乎與半導(dǎo)體制造的所有方面一樣,非常注意控制每個(gè)工藝步驟中的變量,以幫助確保最高水平的均勻性和微芯片產(chǎn)量。 這包括盡最大可能控制殘留物去除過程中使用的水蒸汽的體積,流量和純度。上海自動(dòng)化儀表有限公司最近推出了一種新型蒸氣流量計(jì),該流量計(jì)采用獨(dú)特的蒸氣傳輸技術(shù)方法,比同類蒸氣傳輸系統(tǒng)的精確性和重復(fù)性高30倍。 解決方案:恒定輸送壓力(DP) 基于經(jīng)過驗(yàn)證的熱質(zhì)量流量測(cè)量技術(shù)和現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的可靠蒸汽流量計(jì),該產(chǎn)品通過精確和可重復(fù)的水蒸汽流量輸送降低了過程變化,并提供了更寬的控制范圍。 蒸汽流量計(jì)在非過熱蒸汽階段在鈍化鈦容器中產(chǎn)生蒸汽。水庫含有去離子(DI)水,加熱到嚴(yán)格控制的范圍:90.7±3°C。 由于溫度保持非常穩(wěn)定,流量計(jì)室的上部包含恒定的非過熱蒸汽。反過來,油箱的蒸汽壓力也被精確控制:從487-611托。通過集成到流量計(jì)中的質(zhì)量流量控制器(MFC)將蒸氣輸送到真空室,并使用我們行業(yè)領(lǐng)先的GF100系列MFC使用的相同的超精密熱質(zhì)量流量控制信號(hào)處理和校準(zhǔn)技術(shù)。