發(fā)射均勻的超聲波來消除聲壓的不均勻
發(fā)布者：
陸玉軍 發(fā)布時(shí)間：2012-04-02 09:57:05
此裝置提供了一種通過在多個(gè)振動(dòng)元件之間發(fā)射均勻的超聲波來消除聲壓的不均勻，提高微粒子的除去率的無清洗斑的超聲波清洗裝置。該超聲波清洗裝置具有：清洗槽，用于收容被清洗物和清洗液；多個(gè)振動(dòng)元件，安裝在所述清洗槽上；多個(gè)振蕩器，分別與所述多個(gè)振動(dòng)元件連接，用于激勵(lì)所述多個(gè)振動(dòng)元件；以及控制部，與所述多個(gè)振蕩器連接，用于控制多個(gè)振蕩器以使所述多個(gè)振蕩器對所述多個(gè)振動(dòng)元件輸出相位相同或相位大致相同的信號。
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